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2025-01-10 17:04:05納米光學探針: 納米光學探針是一種利用納米技術和光學原理設計的高精度測量工具。它通過將光學元件微型化至納米尺度，實現對微小結構或生物分子的高精度探測與成像。這種探針具有極高的靈敏度和分辨率，能夠實時監測生物分子間的相互作用、細胞內的動態過程以及材料表面的微觀特性。納米光學探針在生物醫學、材料科學、環境監測等領域具有廣泛應用前景，為科學研究和技術創新提供了強有力的支持。

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納米光學探針資訊

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 HORIBA 科學儀器事業部 385
2022-07-11
封裝技術納米光學探針鈣鈦礦太陽能電池有機小分子熒光探針

納米光學探針產品

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納米光學探針問答

2022-07-14 15:06:51淺談掃描俄歇納米探針: 簡介掃描俄歇納米探針，又稱俄歇電子能譜（Auger Electron Spectroscopy，簡稱AES）是一種表面科學和材料科學的分析技術。根據分析俄歇電子的基本特性得到材料表面元素成分（部分化學態）定性或定量信息。可以對納米級形貌進行觀察和成分表征。近年來，隨著超高真空和能譜檢測技術的發展，掃描俄歇納米探針作為一種極為有效的表面分析工具，為探索和研究表面現象的理論和工藝問題，做出了巨大貢獻，日益受到科研工作者的普遍重視。俄歇電子能譜常常應用在包括半導體芯片成分表征等方向發展歷史近年來，固體表面分析方法獲得了迅速的發展，它是目前分析化學領域中最活躍的分支之一。它的發展與催化研究、材料科學和微型電子器件研制等有關領域內迫切需要了解各種固體表面現象密切相關。各種表面分析方法的建立又為這些領域的研究創造了很有利的條件。在表面組分分析方法中，除化學分析用光電子能譜以外，俄歇電子能譜是最重要的一種。目前它已廣泛地應用于化學、物理、半導體、電子、冶金等有關研究領域中。俄歇現象于1925年由P.Auger發現。28 年以后，J.J.Lander從二次電子能量分布曲線中第一次辨認出俄歇電子譜線，但是由于俄歇電子譜線強度低，它常常被淹沒在非彈性散射電子的背景中，所以檢測它比較困難。 1968年，L.A.Harris 提出了一種“相敏檢測”方法，大大改善了信噪比，使俄歇信號的檢測成為可能。以后隨著能量分析器的完善,使俄歇譜儀達到了可以實用的階段。 1969年圓筒形電子能量分析器應用于AES, 進一步提高了分析的速度和靈敏度。 1970年通過掃描細聚焦電子束,實現了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖)，出現了掃描俄歇微探針儀器。 1972年，R.W.Palmberg利用離子濺射，將表面逐層剝離，獲得了元素的深度分析，實現了三維分析。至此，俄歇譜儀的基本格局已經確定， AES已迅速地發展成為強有力的固體表面化學分析方法，開始被廣泛使用。基本原理俄歇電子是由于原子中的電子被激發而產生的次級電子。當原子內殼層的電子被激發形成一個空穴時，電子從外殼層躍遷到內殼層的空穴并釋放出光子能量；這種光子能量被另一個電子吸收，導致其從原子激發出來。這個被激發的電子就是俄歇電子。這個過程被稱為俄歇效應。Auger electron emission 入射電子束和物質作用，可以激發出原子的內層電子。外層電子向內層躍遷過程中所釋放的能量，可能以X光的形式放出，即產生特征X射線，也可能又使核外另一電子激發成為自由電子，這種自由電子就是俄歇電子。對于一個原子來說,激發態原子在釋放能量時只能進行一種發射：特征X射線或俄歇電子。原子序數大的元素，特征X射線的發射幾率較大，原子序數小的元素，俄歇電子發射幾率較大，當原子序數為33時，兩種發射幾率大致相等。因此，俄歇電子能譜適用于輕元素的分析。如果電子束將某原子K層電子激發為自由電子，L層電子躍遷到K層，釋放的能量又將L層的另一個電子激發為俄歇電子，這個俄歇電子就稱為KLL俄歇電子。同樣，LMM俄歇電子是L層電子被激發，M層電子填充到L層，釋放的能量又使另一個M層電子激發所形成的俄歇電子。只要測定出俄歇電子的能量，對照現有的俄歇電子能量圖表，即可確定樣品表面的成份。由于一次電子束能量遠高于原子內層軌道的能量，可以激發出多個內層電子，會產生多種俄歇躍遷，因此,在俄歇電子能譜圖上會有多組俄歇峰，雖然使定性分析變得復雜，但依靠多個俄歇峰,會使得定性分析準確度很高，可以進行除氫氦之外的多元素一次定性分析。同時,還可以利用俄歇電子的強度和樣品中原子濃度的線性關系,進行元素的半定量分析,俄歇電子能譜法是一種靈敏度很高的表面分析方法。其信息深度為5nm以內,檢出限可達到0.1%atom。是一種很有用的分析方法。系統組成 AES主要由超高真空系統、肖特基場發射電子槍、CMA同軸式筒鏡能量分析器、五軸樣品臺、離子槍等組成。以ULVAC-PHI的PHI 710舉例，其核心分析能力為25 kV肖特基熱場發射電子源，與筒鏡式電子能量分析器CMA同軸。伴隨著這一核心技術是閃爍二次電子探測器、高性能低電壓浮式氬濺射離子槍、高精度自動的五軸樣品臺和PHI創新的儀器控制和數據處理軟件包：SmartSoft AES ? 和 MultiPak ?。并且，目前ULVAC-PHI的PHI 710可以擴展冷脆斷樣品臺、EDS、EBSD、BSE、FIB等技術，深受廣大用戶認可。PHI710激發源，分析器和探測器結構示意圖：為滿足當今納米材料的應用需求，PHI 710提供了最高穩定性的 AES 成像平臺。隔聲罩、低噪聲電子系統、穩定的樣品臺和可靠的成像匹配軟件可實現 AES對納米級形貌特征的成像和采譜。真正的超高真空（UHV）可保證分析過程中樣品不受污染，可進行明確、準確的表面表征。測試腔室的真空是由差分離子泵和鈦升華泵（TSP）抽氣實現的。肖特基場發射源有獨立的抽氣系統以確保發射源壽命。最新的磁懸浮渦輪分子泵技術用于系統粗抽，樣品引入室抽真空，和差分濺射離子槍抽氣。為了連接其他分析技術，如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE，標配是一個多技術測試腔體。 PHI 710 是由安裝在一個帶有 Microsoft Windows ? 操作系統的專用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 儀器操作軟件來控制的。所有PHI電子光譜產品都包括執行行業標準的 PHI MultiPak 數據處理軟件用于獲取數據的最大信息。710 可應用互聯網，使用標準的通信協議進行遠程操作。AES的應用掃描俄歇納米探針可分析原材料（粉末顆粒，片材等）表面組成，晶粒觀察，金相分布，晶間晶界偏析，又可以分析材料表面缺陷如納米尺度的顆粒物、磨痕、污染、腐蝕、摻雜、吸附等，還具備深度剖析功能表征鈍化層，包覆層，摻雜深度，納米級多層膜層結構等。AES的分析深度4-50 ?，二次電子成像的空間分辨可達 3納米，成分分布像可達8納米，分析材料表面元素組成（Li ~ U），是真正的納米級表面成分分析設備。可滿足合金、催化、半導體、能源電池材料、電子器件等材料和產品的分析需求。AES 應用的幾種例子，從左到右為半導體FIB-cut，鋰電陰極向陶瓷斷面分析小結本文小編粗淺的介紹了俄歇電子能譜AES的一些基礎知識，后續我們還會提供更有價值的知識和信息，希望大家持續關注“表面分析家”！

2025-04-23 14:15:17接觸角測量儀探針怎么調: 接觸角測量儀探針的調整是確保測量精度和儀器性能的關鍵步驟。在進行接觸角測量時，探針的正確調整可以顯著影響測量結果的準確性與一致性。本文將詳細介紹如何調節接觸角測量儀的探針，以確保測量過程中各項參數的佳配置，并幫助用戶避免常見的操作失誤。通過正確的操作，不僅能提高測量效率，還能延長儀器的使用壽命。因此，掌握探針調整的技巧，對每一位使用接觸角測量儀的工程師和技術人員來說，都是至關重要的。接觸角測量儀探針的調整通常涉及多個方面，其中包括探針的垂直度、位置以及與樣品表面接觸的角度。為了確保探針能夠精確地接觸到樣品表面，必須調整儀器的探針支撐架。通過調節支撐架的角度和高度，可以保證探針始終與樣品表面垂直，從而減少因角度不準確引起的測量誤差。接觸角測量儀的探針必須精確定位，以確保每次實驗中探針與液滴接觸的條件一致。通常，這需要通過微調螺絲來實現精細定位，確保探針的每次接觸位置不會偏離設定的標準位置。如果探針位置發生偏差，液滴的分布情況將不均勻，從而影響接觸角的準確度。在進行探針調整時，還需要考慮環境因素對測量結果的影響，例如溫度、濕度以及空氣流動等。任何這些因素的變化都可能導致測量值的波動。因此，在調節探針時，確保操作環境穩定，也是確保接觸角測量結果準確性的重要步驟。接觸角測量儀探針的調節是確保實驗數據可靠性的基礎。通過合理的調整方法和操作技巧，能夠有效地提高測量精度，并保證每次實驗結果的一致性。在實際操作中，專業人員應根據儀器的具體要求和操作手冊，謹慎調整探針的各項參數，避免因不當調整導致測量誤差。

2025-02-01 18:10:13光學金相顯微鏡型號區別: 光學金相顯微鏡作為金屬材料研究和分析中的重要工具，不同型號的光學金相顯微鏡在性能、配置和適用領域上存在顯著差異。在本文中，我們將詳細探討市面上常見的光學金相顯微鏡型號，分析它們之間的區別，以及如何根據實際需求選擇適合的型號。通過對比不同型號的特點和功能，幫助科研人員、工程技術人員及相關領域的從業人員更好地理解每種顯微鏡的優勢與局限，從而做出科學合理的選購決策。光學金相顯微鏡主要用于觀察金屬樣品的顯微結構，包括晶粒大小、組織形態及缺陷等，通過光學成像技術對樣本進行放大分析。不同型號的顯微鏡在鏡頭配置、光源選擇、放大倍數、圖像處理能力等方面有所不同，適應的工作環境和研究需求也有所差異。基礎型光學金相顯微鏡通常采用普通光源和標準物鏡，適合對大多數金屬材料進行基本的顯微觀察。這類顯微鏡的放大倍率較低，適用于初步的材料研究和常規檢測。在一些高精度要求的研究中，如需要分析納米級別的細節，用戶可能需要選擇更高端的型號。中高端型號的光學金相顯微鏡則配備了高亮度的LED光源或氙燈，能夠提供更強的照明效果，幫助研究人員在高倍放大下獲得更清晰的圖像。這些型號往往還配有圖像分析軟件，能夠對顯微圖像進行自動化處理、統計分析，提升了操作的便捷性與精度。對于高精度、特殊研究要求的顯微鏡，如電子顯微鏡或掃描電鏡，其配件和附件也更為復雜，除了更高的放大倍率，還可能包括更多的光源選擇、反射光觀察系統以及精密的樣品臺調節系統。這類顯微鏡的應用范圍主要集中在對金屬材料微觀結構、晶體缺陷等進行深度分析。光學金相顯微鏡的型號選擇不僅僅是依據顯微鏡的外形或價格，還要根據具體的使用需求、樣品類型及實驗要求來決定。了解各型號之間的差異及其性能特點，能夠確保研究和分析過程的高效性與準確性，避免盲目選擇和不必要的成本浪費。通過合理的型號選擇，科研人員可以大限度地提高實驗效果，獲得更加精確的分析結果。

2025-04-02 18:00:17光學溶解氧測量儀多少錢: 光學溶解氧測量儀多少錢：價格因素分析與市場概況隨著環境保護和水質監測的需求日益增加，光學溶解氧測量儀在水質檢測領域中扮演著越來越重要的角色。該儀器通過光學原理測量水體中溶解氧的含量，是水質分析、環境監測以及水處理等領域的必備設備。許多用戶在選購時都會關心價格問題，了解光學溶解氧測量儀的市場價格，對于用戶作出合理的購買決策至關重要。本文章將從多個角度分析影響光學溶解氧測量儀價格的因素，并幫助您更好地理解市場價格走勢。光學溶解氧測量儀的價格區間光學溶解氧測量儀的價格因品牌、型號、測量精度、功能以及技術配置的不同而存在較大差異。一般來說，市場上的光學溶解氧測量儀價格大致在幾千元至幾萬元人民幣不等。入門級的光學溶解氧測量儀可能售價在3000元到8000元之間，而高端設備，尤其是那些帶有更多高級功能（如實時數據傳輸、長期監控能力等）的儀器，價格則可能高達2萬元甚至更高。影響光學溶解氧測量儀價格的因素測量原理與精度光學溶解氧測量儀與傳統的電化學式測量儀不同，其使用光學原理進行測量，不受干擾的影響較少，測量精度和穩定性較高。不同精度和測量范圍的儀器，價格差異較大。高精度、高穩定性的儀器往往價格更為昂貴。儀器的品牌與制造商品牌的影響力也是價格的重要因素之一。一些知名品牌的光學溶解氧測量儀，憑借其成熟的技術和廣泛的市場口碑，往往定價較高。而一些新興品牌或小型廠商的儀器，可能在功能上稍有不足，但在價格上較為親民。產品功能與附加特性市場上有些光學溶解氧測量儀具備更多的附加功能，例如遠程數據監控、無線連接、自動校準等，這些額外功能將直接影響價格。功能越豐富，儀器的價格通常也越高。傳感器的種類與材料光學溶解氧測量儀的傳感器是決定其性能的核心部件，傳感器的材料、結構和技術等因素都會影響儀器的價格。高端的傳感器采用更為先進的材料和技術，價格自然較高。市場趨勢與價格預測隨著技術的進步和制造成本的降低，未來光學溶解氧測量儀的價格可能會呈現逐漸下降的趨勢。尤其是國內一些高新技術企業的興起，促進了產品技術的普及和成本的降低，預計中低端產品的價格將會變得更加親民。但對于高精度、高性能的儀器，價格可能依舊較為堅挺。如何選擇合適的光學溶解氧測量儀在選擇光學溶解氧測量儀時，除了考慮價格外，用戶還應根據自己的實際需求，選擇合適的產品。例如，對于水質監測需求不高的用戶，可以選擇價格較低的入門級產品；而對于科研單位或環境監測機構，可能需要選擇具備更高測量精度和更穩定性能的高端設備。光學溶解氧測量儀的價格因多種因素而有所不同，用戶應根據自身的實際需求和預算進行選擇。隨著技術的發展，市場上的產品將越來越豐富，價格也會變得更加靈活和透明。因此，選擇一款性價比高且適合自己需求的光學溶解氧測量儀，成為了每個購買者的重要任務。

2022-09-21 14:51:01布魯克三維光學輪廓儀在光學領域應用: 光學元件在各個領域都有廣泛應用，對光學元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測光學元件的加工精度，從而用于優化加工方法，保證最終元器件的性能指標，是光學元件加工領域的關鍵問題之一。光學元件的加工精度包括表面質量和面型精度，這些參數會影響其對光信號的傳播，進而影響最終器件的性能。此外，各種新型光學元件也需要檢測其表面輪廓，比如非球面，衍射光學元件，微透鏡陣列等。除了最終光學元件的加工精度以外，各種光學元件加工工藝也需要檢測中間過程的三維形貌以保證最終產品的精度，包括注塑、模壓的模具，光學圖案轉印時的掩膜版，刻蝕過程的圖案深度、寬度等。布魯克的三維光學顯微鏡配備雙光源技術，同時實現白光干涉和相移干涉成像，適用于各種不同光學樣品、模具的三維形貌測量。在光學加工領域得到廣泛應用。· 設備可以用于光學元件表面質量檢測，可以通過表面粗糙度、表面斜率分布等判斷光學元件整體散射率，也可以統計局部的各種缺陷。· 設備還可以用于各種光學元件的面型分析，除了手動分析以外，軟件還提供了包括Zernike多項式擬合、非球面分析等功能。· 由于該設備能準確測量和分析光學元件，在多種先進光學元件中得到廣泛應用，包括光柵、菲涅爾透鏡和二元光學元件等衍射光學元件，以及微透鏡陣列等。bruker三維光學輪廓儀在爾迪儀器有售，如有需要可聯系上海爾迪儀器科技有限公司！撥打電話021-61552797！021-61552797！