全部評(píng)論(5條)
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- j澈渾刊o2 2012-08-13 00:00:00
- 理論上講X熒光光譜儀是具備測(cè)試鍍層厚度功能的。因?yàn)闇y(cè)鍍層首先要有制造商開發(fā)的軟件支持才可以完成,這種技術(shù)也是一項(xiàng)比較復(fù)雜的技術(shù),所以并不是每家生產(chǎn)的X熒光光譜儀都可以測(cè)的,即便有些廠家可以測(cè),但也不一定能測(cè)好。如果你已經(jīng)購(gòu)買了儀器,沒有廠家的支持,自己是無法設(shè)置的。 我司從事此行業(yè)20多年,是國(guó)內(nèi)技術(shù)比較成熟的生產(chǎn)廠家。
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- shixiaoqi2017 2012-08-13 00:00:00
- 樓上的是正解,你要表達(dá)的應(yīng)該是X熒光測(cè)厚儀,你想測(cè)的厚度看要求是什么精度,是不是要用到這么高的精度,只有到納米級(jí)別的才用的到,要是測(cè)量到微米的話,只要用普通的涂層測(cè)厚儀就可以了,希望能幫到你。
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- 九間樓小麥 2012-12-05 00:00:00
- 涂鍍層檢測(cè) 目的: 檢查涂覆、電鍍、化學(xué)鍍所形成鍍層厚度及其鍍層均勻性 涂/鍍層產(chǎn)品來料厚度檢驗(yàn) 方法: 截面法(仲裁方法) X射線熒光膜厚法 依據(jù)標(biāo)準(zhǔn): 截面法:GB/T 6462-2005,ASTM B 487-85(2002), ASTM B748-1990(2010) X射線熒光膜厚法:ASTM B 568-98,GB/T 16921-2005,ISO 3497 X射線熒光膜厚法的測(cè)試結(jié)果會(huì)存在一定誤差,如果追求精確數(shù)據(jù),推薦截面法。
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- 23580982640 2012-08-13 00:00:00
- 元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。 一次可同時(shí)分析Z多24個(gè)元素,五層鍍層。 分析檢出限可達(dá)2ppm,Z薄可測(cè)試0.005μm。 分析含量一般為2ppm到99.9% 。 鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同) 任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。 相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。 多變量非線性回收程序 多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.1% 長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性可達(dá)0.1% 度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。 電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。 外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm 樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm 重量:90kg精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái),探測(cè)器和X光管上下可動(dòng),實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)
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- 加視達(dá)傘篷 2012-08-13 00:00:00
- XRF是用來測(cè)成分含量的,并不能用來測(cè)厚度。而且XRF也不能用來測(cè)鍍層的,基體影響很大。你說的應(yīng)該是X光測(cè)厚儀,是根據(jù)反射回電子通過惰性氣體流動(dòng)產(chǎn)生電流的大小來確定厚度的。 X光測(cè)厚是無損檢測(cè),多用來在線測(cè)量。用的比較普遍的還是金相顯微鏡
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X射線熒光光譜儀測(cè)試方法
X射線熒光光譜儀(XRF)是一種利用X射線激發(fā)樣品發(fā)射熒光的技術(shù),廣泛應(yīng)用于材料分析、元素檢測(cè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、地質(zhì)勘探等領(lǐng)域。本文將詳細(xì)介紹X射線熒光光譜儀的測(cè)試方法,探討其原理、操作流程、應(yīng)用范圍及優(yōu)勢(shì),以幫助讀者更好地理解這一技術(shù)在分析中的應(yīng)用及其操作細(xì)節(jié)。
X射線熒光光譜儀的核心原理基于X射線與樣品的相互作用。當(dāng)X射線照射到物質(zhì)表面時(shí),物質(zhì)中的電子被激發(fā),從而釋放出能量特征的熒光。這些熒光信號(hào)與樣品中的元素成分密切相關(guān),通過分析熒光的強(qiáng)度和能量,可以確定樣品中各元素的種類及其含量。XRF技術(shù)不僅適用于固體、液體、氣體等多種狀態(tài)的樣品,而且能夠?qū)崿F(xiàn)非破壞性分析,這使得它在科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)中具有廣泛的應(yīng)用前景。
在實(shí)際操作中,X射線熒光光譜儀的測(cè)試方法通常包括以下幾個(gè)步驟:
樣品準(zhǔn)備 對(duì)于固體樣品,通常需要對(duì)樣品進(jìn)行表面清潔,以避免表面污染物影響測(cè)試結(jié)果。樣品形狀和尺寸應(yīng)適應(yīng)儀器要求,確保測(cè)試精度。液體樣品則可能需要置于適當(dāng)?shù)娜萜髦校苊馊軇┱舭l(fā)或干擾測(cè)試。對(duì)于多成分或復(fù)雜結(jié)構(gòu)的樣品,可能需要進(jìn)行樣品預(yù)處理,如粉末化、壓片或其他方法以提高測(cè)試的可靠性。
儀器設(shè)置 操作人員需要根據(jù)測(cè)試的元素類型和范圍,選擇合適的X射線源、能量等級(jí)和探測(cè)器。X射線光源的能量直接影響測(cè)試元素的激發(fā)效果,而探測(cè)器的類型和靈敏度則決定了測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確度。因此,選擇正確的實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)于獲得準(zhǔn)確數(shù)據(jù)至關(guān)重要。
測(cè)試過程 在測(cè)試過程中,儀器通過將X射線照射到樣品表面,激發(fā)樣品內(nèi)的元素發(fā)射熒光。儀器中的探測(cè)器會(huì)收集這些熒光信號(hào),并根據(jù)能量色散技術(shù)對(duì)其進(jìn)行分離和分析。,通過計(jì)算機(jī)軟件對(duì)采集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,得到樣品中各元素的濃度分布圖譜。不同的元素會(huì)釋放特定能量的熒光,因此,通過分析熒光的波長(zhǎng)和強(qiáng)度,可以精確確定樣品中的元素種類和含量。
數(shù)據(jù)處理與分析 X射線熒光光譜儀測(cè)試結(jié)束后,數(shù)據(jù)處理和分析是非常關(guān)鍵的一步。現(xiàn)代XRF儀器一般配備先進(jìn)的分析軟件,可以對(duì)熒光數(shù)據(jù)進(jìn)行定量和定性分析。這些軟件通過校準(zhǔn)和比較標(biāo)準(zhǔn)樣品,能有效消除干擾因素,提供準(zhǔn)確的元素定量結(jié)果。軟件還可以生成樣品的元素分析報(bào)告,幫助研究人員和工程師更好地理解和解讀測(cè)試結(jié)果。
應(yīng)用領(lǐng)域 X射線熒光光譜儀的應(yīng)用非常廣泛,尤其在環(huán)保、地質(zhì)、冶金、電子、化學(xué)及材料科學(xué)等領(lǐng)域中。比如,在環(huán)境監(jiān)測(cè)中,XRF技術(shù)被用于檢測(cè)土壤、水體及空氣中的重金屬污染物。在地質(zhì)勘探中,XRF能夠分析礦石的元素組成,指導(dǎo)資源開采和礦物提取。在冶金工業(yè)中,XRF則被用于金屬合金的質(zhì)量控制和成分分析。
優(yōu)勢(shì)與挑戰(zhàn) X射線熒光光譜儀具有許多優(yōu)點(diǎn),首先是它的非破壞性,能夠?qū)悠愤M(jìn)行快速、無損的分析。XRF技術(shù)的分析速度快、操作簡(jiǎn)便,非常適合現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)和高通量分析。XRF也存在一定的局限性,比如對(duì)于輕元素的分析能力相對(duì)較弱,且存在一定的矩陣效應(yīng),因此在處理復(fù)雜樣品時(shí),需要對(duì)測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行細(xì)致的分析和校正。
X射線熒光光譜儀是一種高效、精確的分析工具,在各類元素分析中發(fā)揮著重要作用。通過合理的測(cè)試方法和數(shù)據(jù)處理手段,XRF技術(shù)能夠提供的元素組成分析,為科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)提供可靠的支持。
- X熒光光譜儀主要用途
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- X熒光光譜儀技術(shù)原理?
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- X熒光光譜儀的優(yōu)缺點(diǎn)
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- 我了解的進(jìn)口X射線熒光光譜儀有 島津,熱電,布魯克,理學(xué),帕納克,請(qǐng)問,這些進(jìn)口熒光在性能上有什么有缺點(diǎn),越詳細(xì)越好。
- X射線熒光光譜儀測(cè)試時(shí)對(duì)樣品是否有要求
- 測(cè)試樣品是否需要為單一相或均質(zhì)什么的。假設(shè)我的樣品里面有高分子部分和無機(jī)物部分相互交錯(cuò)規(guī)律排列,測(cè)試結(jié)果是否會(huì)有影響?若樣品里面有晶體成份,那測(cè)試結(jié)果是否也會(huì)被影響?... 測(cè)試樣品是否需要為單一相或均質(zhì)什么的。 假設(shè)我的樣品里面有高分子部分和無機(jī)物部分相互交錯(cuò)規(guī)律排列,測(cè)試結(jié)果是否會(huì)有影響? 若樣品里面有晶體成份,那測(cè)試結(jié)果是否也會(huì)被影響? 展開
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