本文由 泰初科技（天津）有限公司 整理匯編

2020-03-29 12:03 1512閱讀次數(shù)

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• UVK3高分辨率紫外曝光機(jī)

  詳細(xì)介紹了UVK3紫外曝光機(jī)的功能及應(yīng)用領(lǐng)域和規(guī)格參數(shù)[詳細(xì)]

  2020-03-29 12:03

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 玻璃碎片曝光機(jī) JZ-SGE-A

  玻璃碎片曝光機(jī)/型玻璃碎片曝光儀型號(hào)：JZ-SGE-A1.用途:JZ-SGE-A型玻璃碎片曝光機(jī)是用于汽車、建筑、機(jī)車鋼化玻璃碎片狀態(tài)試驗(yàn)的必備設(shè)備。本機(jī)精心選擇對(duì)曬圖紙曝光敏感的紫外光做光源，提高了曝光效率，具有玻璃碎片成像清晰的特點(diǎn)；本機(jī)應(yīng)用單片機(jī)實(shí)現(xiàn)曝光時(shí)間和對(duì)開式擋光板自動(dòng)控制；具有曝光時(shí)間可調(diào)、定時(shí)準(zhǔn)確的特點(diǎn)；其技術(shù)指標(biāo)符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《汽車用安全玻璃》(GB9656)、建筑用《鋼化玻璃》國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB9963)，《鐵路車輛用安全玻璃》(GB18045)的要求，尤其是能對(duì)實(shí)物樣品玻璃上的商標(biāo)和3C強(qiáng)制認(rèn)證標(biāo)識(shí)進(jìn)行曝光曬圖。2.主要技術(shù)指標(biāo):擋光板開/關(guān)時(shí)間：≤5s；擋光板Zda開啟角度：≤120°；曝光光強(qiáng)穩(wěn)定時(shí)間：≤180s（自動(dòng)聲響提示）；Zdi安裝高度：1.6m（對(duì)應(yīng)曝光面積2×1m）；光源起輝時(shí)間：≥2s；光源再起輝Z小間隔時(shí)間：5min；曝光時(shí)間設(shè)定范圍：1-999s（四位數(shù)碼顯示）；無線遙控距離：≥10m；功率消耗：220VAC≤680W；[詳細(xì)]

  2018-09-24 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 紫外掩膜曝光光刻機(jī)

  美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是領(lǐng)xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗(yàn)，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國(guó)國(guó)家半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺(tái)塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細(xì)]

  2024-09-28 08:12

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料

  法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計(jì)，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2° 本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。 ? [詳細(xì)]

  2024-09-15 17:10

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 紫外老化試驗(yàn)箱：UV光與濕度曝光法

  紫外老化試驗(yàn)箱采用能**模擬陽光中UV段光譜的熒光紫外燈，并結(jié)合控溫、供濕等裝置來模擬對(duì)材料造成變色、亮度、強(qiáng)度下降；開裂、剝落、粉化、氧化等損害的陽光（UV段）高溫、高濕、凝露、黑暗周期等因素，同時(shí)通過紫外光與濕氣之間的協(xié)同作用使得材料單一耐光能力或單一耐濕能力減弱或失效，從而廣泛用于對(duì)材料耐氣候性能的評(píng)價(jià)，設(shè)備具有提供**的陽光UV模擬，使用維護(hù)成本低廉，易于使用，設(shè)備采用程控器自動(dòng)運(yùn)行試驗(yàn)周期，自動(dòng)化程度高，燈光穩(wěn)定性好，試驗(yàn)結(jié)果重現(xiàn)率高等特點(diǎn)。北京恒泰豐科試驗(yàn)設(shè)備有限公司地址：北京市東四環(huán)南路53號(hào)郵編：100023電話:010-57926051（總機(jī)）010-57926052傳真：010-57926062E-mail:bjhtfk@163.com本資料可以從以下網(wǎng)站免費(fèi)下載：http://www.bjhtfk.comhttp://www.htfk17.comhttp://www.bjhtfk17.comhttp://www.htfksyx.comhttp://www.010sy17.com[詳細(xì)]

  2018-10-05 10:01

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料二

  法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計(jì)，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2° 本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。 [詳細(xì)]

  2024-09-15 17:11

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

  紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)詳情請(qǐng)瀏覽：http://www.010sy17.com[詳細(xì)]

  2018-10-05 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用極紫外（EUV）輻射實(shí)現(xiàn)高分辨率成像！

  極紫外（EUV）應(yīng)用亮點(diǎn)●● //1｜新的臺(tái)式光源使 10-100 納米級(jí)的應(yīng)用變?yōu)楝F(xiàn)實(shí) //2｜極紫外線應(yīng)用包括計(jì)量學(xué)、納米級(jí)成像和電子光譜學(xué) //3｜極紫外線系統(tǒng)通常采用反射光學(xué)系統(tǒng)因?yàn)檎凵湎到y(tǒng)的光吸收率高 //4｜表面粗糙度至關(guān)重要因?yàn)檩^短波長(zhǎng)處的散射通常更高 極紫外線 (EUV) 輻射包括在 X 射線和深紫外線 (DUV) 光譜區(qū)域之間約 10nm 至 100nm 的波長(zhǎng)帶。隨著極紫外線領(lǐng)域（包括光刻技術(shù)、納米級(jí)成像和光譜學(xué)等）中對(duì)于許多應(yīng)用的需求日趨緊迫，Z jin 均已著手開發(fā)緊湊型極紫外線光源。這一努力為幾種極紫外線光源帶來了商業(yè)可用性. 幾乎所有材料都能夠 完 quan 吸收極紫外線輻射，因此光學(xué)元件幾乎都是反射，而不是透射的。由于波長(zhǎng)很短，因此對(duì)極紫外線光學(xué)元件表面的質(zhì)量要求比可見光元件的要求更高。雖然由于其苛刻的要求，生產(chǎn)極紫外線光學(xué)元件并非易事，但因極紫外線輻射在高分辨率成像、光譜學(xué)和材料加工等方面的優(yōu)勢(shì)，仍然值得為此付出努力.[詳細(xì)]

  2022-03-11 09:29

  標(biāo)準(zhǔn)

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• ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)

  ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)[詳細(xì)]

  2018-10-05 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• QUV 紫外加速老化試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品樣冊(cè)

  QUV 紫外加速老化試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品樣冊(cè)[詳細(xì)]

  2024-09-29 05:18

  實(shí)驗(yàn)操作

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• ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn).pdf

  ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化試驗(yàn)箱UV機(jī)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn).pdf[詳細(xì)]

  2015-09-09 00:00

  課件

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• 人工加速老化試驗(yàn)機(jī)/紫外老化試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品樣冊(cè)

  人工加速老化試驗(yàn)機(jī)/紫外老化試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品樣冊(cè)[詳細(xì)]

  2016-10-20 09:41

  應(yīng)用文章

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• Phasics-High-resolution_Interferometer高分辨率干涉儀

  Phasics-High-resolution_Interferometer高分辨率干涉儀[詳細(xì)]

  2015-11-30 00:00

  其它

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• HR4Pro 高分辨率光纖光譜儀

  HR4Pro 高分辨率光纖光譜儀[詳細(xì)]

  2024-09-12 10:47

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 高分辨率光頻譜儀

  高分辨率光頻譜儀[詳細(xì)]

  2024-09-11 18:03

  應(yīng)用文章

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• 非金屬材料紫外線老化試驗(yàn)箱曝光使用標(biāo)準(zhǔn)

  非金屬材料紫外線老化試驗(yàn)箱曝光使用標(biāo)準(zhǔn)[詳細(xì)]

  2013-05-15 00:00

  期刊論文

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• 高分辨率X射線成像系統(tǒng) 高分辨率X射線成像系統(tǒng)產(chǎn)品樣冊(cè)

  該高分辨率X射線成像系統(tǒng)是為X射線光束對(duì)準(zhǔn)應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。它采用了獨(dú)特的機(jī)械結(jié)構(gòu)，可結(jié)合各種相機(jī)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)X射線光束對(duì)準(zhǔn)。?鈹輸入窗實(shí)現(xiàn)了寬范圍的X射線能量；并配以L形石英光學(xué)系統(tǒng)，可提供高X射線輻射耐受性。 [詳細(xì)]

  2024-10-02 13:18

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• HORIBA 高速高分辨率拉曼光譜儀

  HORIBA 高速高分辨率拉曼光譜儀[詳細(xì)]

  2024-09-13 01:53

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• HORIBA 高速高分辨率拉曼光譜儀

  HORIBA 高速高分辨率拉曼光譜儀[詳細(xì)]

  2024-09-13 00:44

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• EQ4000 高分辨率光纖光譜儀產(chǎn)品樣冊(cè)

  EQ4000 高分辨率光纖光譜儀產(chǎn)品樣冊(cè)[詳細(xì)]

  2016-10-18 14:30

  實(shí)驗(yàn)操作

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