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韓國CTS工業級CMP化學機械拋機
- 品牌：韓國CTS
- 型號： SAERO2K
- 產地：亞洲 韓國
- 供應商報價：面議
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倬昊納米科技（上海）中心
更新時間：2024-04-21 22:44:05 -
銷售范圍售全國
入駐年限第4年
營業執照已審核
- 同類產品CMP化學機械拋光機(4件)
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詳細介紹
產品簡介
韓國CTS公司的SAERO2K型CMP拋光機是一款全自動工業級CMP系統，4寸，6寸，8寸可選，用于半導體工廠及批量量產。
產品主要特色
- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，3區壓力分區控制，可得到良好的工業級拋光效果。
- 自動上下片，自動拋光，干進干出。
- 拋光墊修整器：擺臂式設計，拋光墊分10區修整控制，可調整修整器下壓力及每個區域的修整時間，可保證拋光墊高水平修整。
- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式。
- 工藝數據可實時監測。
- 可存儲多個Recipe。
- 帶全自動手臂及自動雙面清洗設備模塊。
n核心技術參數
拋光頭
4寸，6寸，8寸
拋光頭數量
2個/4個
拋光頭擺動范圍
±15mm
拋光頭轉速
0 ~ 200 rpm
拋光頭加壓方式
氣囊柔性加壓背壓功能（3區加壓）
拋光頭壓力范圍
0.14 ~ 14 psi
拋光盤尺寸
20英寸
拋光盤數量
1個/2個
拋光盤轉速
0 ~ 200 rpm
蠕動泵
2個
拋光液流速
0 ~ 500 cc/min
拋光墊修整器分區
10區
拋光墊修整器在線掃描速度
10sweeps/min
拋光墊修整器下壓力
3-20lbs
拋光墊修整器轉速
0-150rpm
CMP后片內非均勻性WIWNU
1sigma，去邊5mm
< 5%
CMP后片間非均勻性WTWNU
1sigma，去邊5mm
< 3%
后清洗系統
包含
冷卻系統
包含高壓DIW沖洗，雙面PVA刷洗，化學液清洗，高速甩干等功能。
EFEM
包含
n應用案例
CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜，STI等
滬公網安備 31011502008050號