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棱鏡耦合儀Model 2010
- 品牌:北京先鋒科技
- 型號(hào)/貨號(hào): Model 2010/Model 2010
- 產(chǎn)地:北京 海淀區(qū)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):面議
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北京先鋒泰坦科技有限公司
更新時(shí)間:2025-04-29 11:22:18
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銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第10年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品薄膜厚度/折射率測(cè)試儀(1件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- Metricon公司的Model 2010棱鏡耦合儀使用先進(jìn)的光波導(dǎo)技術(shù),對(duì)電介質(zhì)及聚合物膜的膜厚和折射率/ 雙折射進(jìn)行快速及準(zhǔn)確的測(cè)量。對(duì)于許多薄膜及光波導(dǎo)用途,Model 2010 提供了比以橢圓光度法或分光光度法為基礎(chǔ)的傳統(tǒng)儀器更獨(dú)特的技術(shù)。
詳細(xì)介紹
- 棱鏡耦合波導(dǎo)測(cè)試儀Metricon 公司 的Model 2010 棱鏡耦合儀使用先進(jìn)的光波導(dǎo)技術(shù),對(duì)電介質(zhì)及聚合物膜的膜厚和折射率/ 雙折射進(jìn)行快速及準(zhǔn)確的測(cè)量。對(duì)于許多薄膜及光波導(dǎo)用途,Model 2010 提供了比以橢圓光度法或分光光度法為基礎(chǔ)的傳統(tǒng)儀器更獨(dú)特的技術(shù)。
MODEL 2010 的優(yōu)勢(shì)
Model 2010 數(shù)據(jù)分析軟件是完全通用的,兼容Windows XP / Vista / Windows 7, 極大地提高了用戶友好的控制程序, 和新測(cè)量的功能,允許測(cè)量從常見到特殊的薄膜而不需依靠?jī)?nèi)部系數(shù)或菜單式校準(zhǔn)曲線。
? 不必預(yù)先知曉厚度及折射率
? ±0.0005 常規(guī)折射率分辨率- 尤其在大批量生產(chǎn)時(shí)比其他技術(shù)更具優(yōu)勢(shì)( 可獲得更高折射率)
? 完全通用化- 沒有固定的薄膜/ 基底合并菜單
? 可測(cè)量雙膜結(jié)構(gòu)中的單膜厚度及折射率
? 可進(jìn)行體材料或基底材料的高精度折射率測(cè)量
? 快速測(cè)量薄膜或漫反射光波導(dǎo)參數(shù)(20s)
美國(guó)Metricon 公司生產(chǎn)了*一臺(tái)棱鏡耦合儀,開創(chuàng)了在薄膜、大面積材料、光波導(dǎo)等實(shí)際應(yīng)用中的棱鏡耦合測(cè)量技術(shù), 多年來已經(jīng)有超過千套測(cè)試系統(tǒng)在多個(gè)大學(xué),研究所和企業(yè)實(shí)際應(yīng)用。
主要技術(shù)指標(biāo)
? 折射率精度:±0.001( 甚至更高±.0002 to ±.0005,視樣品而定)
? 折射率分辨率:±.0001 to ±.0003( 甚至高于±.00005)
? 厚度精度:±(0.5% + 5 nm)
? 厚度分辨率:±0.3%
? 折射率測(cè)量范圍:2.65 以下( 一些情況可達(dá)3.35 以下)
? 操作波長(zhǎng):632.8nm,1310nm,1550nm 以及其他可見光/ 近紅外光
? 允許的基底材料: 硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍(lán)寶石、鋰酸鈮等
2010棱鏡耦合儀的主要特點(diǎn)
? 中/ 厚膜膜厚及折射率( 尤其是光波導(dǎo))測(cè)量的*佳選擇
? 不需要預(yù)先知道膜的厚度
? 獨(dú)特的氣壓耦合方式, 不需要加耦合液? 軟件:windows version 操作軟件
? 輸出: 計(jì)算機(jī)顯示和打印機(jī)輸出薄膜類型和折射率 厚度和折射率一起測(cè)量 僅測(cè)量厚度 硅基上的二氧化硅 (n=1.46) 0.48-150μm 0.20-0.48μm 硅基上的光刻膠 (n=1.63) 0.42-150μm 0.18-0.42μm 二氧化硅上的光刻膠 (n=1.63) 0.70-150μm 0.30-0.70μm 硅基上的聚酰亞胺 (n=1.72) 0.38-150μm 0.15-0.38μm 二氧化硅上的聚酰亞胺 (n=1.72) 0.50-150μm 0.16-0.50μm 硅基上的氮氧化硅 (n=1.80) 0.35-150μm 0.14-0.35μm 二氧化硅上的氮氧化硅 (n=1.80) 0.45-150μm 0.13-0.45μm 硅基上的氮化硅 (n=2.0) 0.32-150μm 0.12-0.32μm 二氧化硅上的氮化硅 (n=2.0) 0.30-150μm 0.15-0.30μm
當(dāng)光入射到棱鏡上, 隨著旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn), 入射角就隨之發(fā)生了變化, 在某一個(gè)入射角度, 光子就會(huì)經(jīng)空氣狹縫進(jìn)入薄膜傳輸出來, 因此探測(cè)器得到的光子能量就會(huì)降低, 形成凹陷, 這叫做泄漏模。*一個(gè)模的位置決定了薄膜的折射率, 而模間隔決定了薄膜的厚度。
棱鏡耦合儀和橢偏儀的區(qū)別
技術(shù)資料