GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理 氣相沉積（PVD）制備薄膜技術的一種。）設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。該設備體積小，節省實驗室空間，操作簡單，尤其適合實驗室使用。1、設有真空表、濺射電流表，可實時監控工作狀態。
2、通過調節濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得ZJ鍍膜效果。
3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。
4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。
5、根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
6、已通過CE認證。