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PLR-HGPR高溫高壓光催化反應系統

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產品特點

PLR-HGPR高溫高壓光催化反應系統氣體總流量:1~60 mL/min;具有安全泄壓閥:7 MPa(可調節);反應體系溫度、壓力儀表顯示;整體安全一體式防護箱設計,保證了實驗的安全性。

詳細介紹

關鍵特征

● 實現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應;

● 可用于氣-固相光催化、液固相光催化反應的微分式和積分式光化學反應;

● 氣體流速可三路獨立控制,使用超厚石英光窗,可用于全光譜范圍內的光化學反應;

● 具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制,三路進氣可分別控制。

 

應用領域

▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物(如染料、苯及苯系物等)        ▲ 光催化CO2還原

▲ 其他高溫高壓(光)化學反應        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物(如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等)                                             

○ 光催化量子效率測量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學

 

技術參數

● 反應溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達380℃);

● 反應壓力:1~10 MPa;

● 反應容積:50 mL(可定制25、100 mL);

● 氣路數量:3路;

● 氣體總流量:1~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa(可調節);反應體系溫度、壓力儀表顯示;

● 獨立高壓氣體混勻室 :1 L,保證氣體在實驗中的連續長時間供應;具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制,三路進氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計,用于氣體流量監測(10~60 mL/min寬范圍調節);

● 整體安全一體式防護箱設計,保證了實驗的安全性;

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