ZEISS的場發射掃描電鏡全部采用新一代zhuan利鏡筒(GEMINI)設計，具有優良的高、低加速電壓性能。創新的InLens設計是目前世界上wei一真正的內置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有zei佳的靈敏度和zei高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業界zei高等級的分辨率和圖像質量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得zei高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發射掃描電鏡創造性的采用電磁、靜電復合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。

【技術參數】

分辨率：1.0nm@ 15KV  

           1.9nm@ 1KV          

           2.0nm@ 30KV(VP mode)

放大倍數：12 - 1,000,000x

加速電壓：0.02 - 30 KV

探針電流：4 pA - 20 nA (12pA - 100 nA可選)

樣品室：   330 mm (φ) x 270 mm (h)

樣品臺：   5軸優中心全自動

                 X = 130mm

                 Y = 130 mm

                 Z = 50mm

                 T = -3 to 70°

                 R = 360°連續旋轉

系統控制：基于Windows XP的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤、控制面板控制