Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被等離子體表面處理儀的真空泵抽走，這款等離子體表面處理儀的清洗程度達到分子級。Harrick等離子體表面處理儀除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能：等離子體表面處理儀的等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。 Harrick 等離子體表面處理儀對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子體表面處理儀的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。 Harrick 等離子體表面處理儀廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

 Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：

* 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

* 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

* 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

* 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。

* 清洗生物芯片、微流控芯片。

* 清洗沉積凝膠的基片。

* 高分子材料表面修飾。

* 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

* 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 

等離子體表面處理儀的產(chǎn)品特征：

* 緊湊的臺式設(shè)備、沒有RF放射、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。

* 功率為低、中、高三檔可調(diào)。

* 兩種型號：

基本型：PDC-32G-2

清洗艙：長6.5英寸，直徑3英寸；艙蓋可拆卸。 

整機尺寸：H216×W254×D200mm

擴展型：PDC-002

清洗艙：長6.5英寸，直徑6英寸；艙蓋具備鉸鏈和磁力鎖，并有一個可視窗口。

整機尺寸：H279×W457×D229mm

擴展型：PDC-002-HP

清洗艙：長6.5英寸，直徑6英寸；艙蓋具備鉸鏈和磁力鎖，并有一個可視窗口。

整機尺寸：H279×W457×D229mm

我們還提供以下配件選項：

PDC-FMG-2 PlasmaFlo氣流混合器（230伏）

PDC-VP-2 豪華版的真空泵230V (包含管子，管夾，進油轉(zhuǎn)接頭，中套環(huán)和變壓管夾)

PDC-VP-OIL 豪華版真空泵用油 

PDC-VPE-2 基礎(chǔ)型真空泵230V (包含管子和管夾)

PDC-VPE-OIL 基礎(chǔ)型真空泵用油 

PDC-32T 石英樣片（適用于PDC-32G-2 基礎(chǔ)型等離子清洗機）

PDC-00Q石英樣片（適用于PDC-002擴展型等離子清洗機）

PDC-32Q 石英艙體（適用于PDC-32G-2 基礎(chǔ)型等離子清洗機） 

PDC-191-420可替換的派熱克斯艙體Pyrex Chamber （適用于PDC-002擴展型等離子清洗機）

PDC-191-105可替換的派熱克斯艙體Pyrex Chamber （適用于PDC-32G-2擴展型等離子清洗機）

PDC-191-111 可替換的前蓋裝置（適用于PDC-32G-2擴展型等離子清洗機）

PDC-FLB 可替換的熒光燈泡 (適用于射頻檢測)

注：我們的設(shè)備配有115V和230V兩種電壓類型，缺省為230V電壓，如果客戶需要115V電壓，請訂購時特別注明。

等離子體表面處理儀的功能：

1.對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。

2.改變某些材料表面的性能。

3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

4.清除金屬材料表面的氧化層。

5.對被清洗物進行消毒、殺菌。

等離子體表面處理儀的優(yōu)點：  

1.完全徹底地清除表面有機污染物。

2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。

3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。

4.綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無二次污染。

5.常溫條件下清洗，被清洗物的溫度變化微小。

6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。