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四氟測量池 半導體刻蝕PTFE電導池HF濃度測量池

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產品特點

四氟材質HF濃度測量池在半導體行業的應用廣泛,特別是在化學蝕刻、清洗和電鍍等工藝中,其操作涉及精確測量和控制氫氟酸(HF)的濃度,以確保半導體制造過程的穩定性,從而提高半導體晶圓的加工質量和生產效率。該測量池還可用于清洗和電鍍等工藝中,確保化學液體的均勻分布和精確控制。

詳細介紹

四氟材質HF濃度測量池在半導體行業的應用廣泛,特別是在化學蝕刻、清洗和電鍍等工藝中,其操作涉及精確測量和控制氫氟酸(HF)的濃度,以確保半導體制造過程的穩定性和產品質量

產品特性

1.外觀純白色;靈活可定制多種樣式

2.耐高溫:使用溫度-200~+250℃;

3.可定制各種規格形狀四氟樣品瓶,廣口四氟樣品瓶皆為定制;

4.痕量元素分析,存儲有機溶劑;

5.具有化學耐受性,幾乎可耐受所有的化學溶劑(耐強酸、強堿、王水和各種有機溶劑)。


?四氟測量池_副本.jpg半導體管路閥門.png

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