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雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD
- 品牌:合肥科晶
- 型號: VTC-600-2HD
- 產地:安徽
- 供應商報價:面議
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合肥科晶材料技術有限公司
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照
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詳細介紹
VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
技術參數
結構
(點擊圖片查看詳細資料)
輸入電源
220VAC50/60Hz,單相
2000W(包括泵)
濺射電源
安裝有兩個濺射電源
直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜
同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭
儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫
其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,最大厚度1.5mm
陶瓷靶:直徑為50mm,最大厚度6mm
儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員聯系
真空腔體
真空腔體:300mmDiax300mmh,采用不銹鋼制作
觀察窗口:100mm
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
載樣臺
載樣臺尺寸:140mm(最大可放置4"的基底)
載樣臺可以旋轉,其速度為:1-20rpm(可調)
載樣臺最高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/-1.0°C
氣體流量控制器
儀器內部安裝有2個質量流量計
量程為:0-200sccm
氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
真空泵系統
配有一套分子泵系統(德國制作),采用一鍵式操作
薄膜測厚儀
一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10?
LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
外形尺寸
L1300mm×W660mm×H1200mm
重量
160kg
質保期
一年質保期,終生維護