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雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

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聯系我們時請說明在儀器網(www.ghhbs.com.cn)上看到的!

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詳細介紹

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。


技術參數

結構

(點擊圖片查看詳細資料)

輸入電源

  • 220VAC50/60Hz,單相

  • 2000W(包括泵)

  • 濺射電源

  • 安裝有兩個濺射電源

  • 直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜

  • 射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜

  • 同時可選配300W的射頻電源

磁控濺射頭

  • 儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫

  • 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材

  • 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材

  • 靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,最大厚度1.5mm

  • 陶瓷靶:直徑為50mm,最大厚度6mm

  • 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶

  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)

也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員聯系

真空腔體

  • 真空腔體:300mmDiax300mmh,采用不銹鋼制作

  • 觀察窗口:100mm

  • 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

載樣臺

  • 載樣臺尺寸:140mm(最大可放置4"的基底)

  • 載樣臺可以旋轉,其速度為:1-20rpm(可調)

  • 載樣臺最高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/-1.0°C

氣體流量控制器

  • 儀器內部安裝有2個質量流量計

  • 量程為:0-200sccm

  • 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

真空泵系統

配有一套分子泵系統(德國制作),采用一鍵式操作

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10?

  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據

外形尺寸

L1300mm×W660mm×H1200mm

重量

160kg

質保期

一年質保期,終生維護



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