桌面型紫外掩膜對準機是全球首kuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對準器中的理想冷光源紫外掩膜對準機。能夠在4英寸工作面積上實現2微米微結構，對準精度高達3微米，廣泛用于光刻掩膜對準曝光，適用于微流體芯片，微電子，光學微結構,MEMS等微納器件的光刻制作。

技術參數

• 分辨率：2微米

• 接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可選）

• 接收襯底大小：2-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm

• 系統可視分辨率：3微米 （1.5微米可選）

• 掩膜/襯底測量距離分辨率：0.5微米

• theta襯底位移分辨率：5.10-4度

• XYZ襯底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可選）

• 波長：365nm 或 405nm

• 功率密度：35mW/cm^2

• 曝光中襯底升溫：<1攝氏度

• 曝光時間：1秒到18小時

• 可編程曝光循環：>100個

• 尺寸：475x475x478mm

• 重量：55kg

• 觸摸屏：15.6寸彩色觸摸屏

• 電力要求：220V

• 用電功耗：180W