-
-
Filmetrics 薄膜厚度測量系統F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
- 品牌:美國Filmetrics
- 型號: F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
- 產地:美洲 美國
- 供應商報價:面議
-
深圳市藍星宇電子科技有限公司
更新時間:2025-04-30 08:50:10
-
銷售范圍售全國
入駐年限第7年
營業執照已審核
- 同類產品美國Filmetrics(1件)
立即掃碼咨詢
聯系方式:13538131258
聯系我們時請說明在儀器網(www.ghhbs.com.cn)上看到的!
掃 碼 分 享 -
為您推薦
產品特點
- 只需按下一個按鈕,您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。設置同樣簡單, 只需插上設備到您運行Windows?系統計算機的USB端口, 并連接樣品平臺 。
詳細介紹
Filmetrics 薄膜厚度測量系統F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
F20 系列
世界上zui暢銷的臺式薄膜厚度測量系統
只需按下一個按鈕,您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。設置同樣簡單, 只需插上設備到您運行Windows?系統計算機的USB端口, 并連接樣品平臺 , F20已在世界各地有成千上萬的應用被使用. 事實上,我們每天從我們的客戶學習更多的應用.
選擇您的F20主要取決于您需要測量的薄膜的厚度(確定所需的波長范圍)
F20系列型號規格
型號
厚度范圍*
波長范圍
F20
15nm - 70μm
380-1050nm
F20-EXR
15nm - 250μm
380-1700nm
F20-NIR
100nm - 250μm
950-1700nm
F20-UV
1nm - 40μm
190-1100nm
F20-UVX
1nm - 250μm
190-1700nm
F20-XT
0.2μm - 450μm
1440-1690nm
F3-sX 系列
10μm - 3mm
960-1580nm
F30 系列
監控薄膜沉積,有力的工具
F30光譜反射率系統能實時測量學沉積率,沉積層厚度,光學常數(N或K值)和半導體以有電介層的均勻性。
樣品層
分子束外延和金屬有機化學氣相沉積:可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。這實際上包括從氮化鎵侶到鎵銦磷砷的任何半導體材料。
F30系列型號規格
*取決于薄膜種類
型號
厚度范圍*
波長范圍
F30
15nm-70μm
380-1050nm
F30-EXR
15nm - 250μm
380-1700nm
F30-NIR
100nm - 250μm
950-1700nm
F30-UV
3nm-40μm
190-1100nm
F30-UVX
3nm - 250μm
190-1700nm
F30-XT
0.2μm - 450μm
1440-1690nm
常見選購配件:鏡頭組:
各項優點:
。極大地提高生產力 ,
。低成本 —幾個月就能收回成本
。A精確 — 測量精度高于 ±1%
。快速 — 幾秒鐘完成測量
。非侵入式 — 完全在沉積室以外進行測試
F40 系列
將您的顯微鏡變成薄膜測量工具
F40 產品系列用于測量小到 1 微米的光斑。 對大多數顯微鏡而言,F40 能簡單地固定在 c 型轉接器上,這樣的轉接器是顯微鏡行業標準配件。
F40 配備的集成彩色攝像機,能夠對測量點進行準確監控。 在 1 秒鐘之內就能測定厚度和折射率。 像我們所有的臺式儀器一樣,F40 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口上并在數分鐘內完成設定。
F40系列型號規格
*取決于薄膜種類
型號
厚度范圍*
波長范圍
F40
20nm-40μm
400-850nm
F40-EXR
20nm-120μm
400-1700nm
F40-NIR
40nm-120μm
950-1700nm
F40-UV
4nm-40μm
190-1100nm
F40-UVX
4nm-120μm
190-1700nm
F50 系列
自動化薄膜測繪
Filmetrics F50 系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta 平臺可接受標準和客制化夾盤,樣品直徑可達450毫米。(耐用的平臺在我們的量產系統能夠執行數百萬次的量測!)
測繪圖案可以是極座標、矩形或線性的,您也可以創造自己的測繪方法,并且不受測量點數量的限制。內建數十種預定義的測繪圖案。
不同的 F50 儀器是根據波長范圍來加以區分的。 標準的 F50是zui受歡迎的產品。 一般較短的波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。
F50系列型號規格
*取決于薄膜種類
型號
厚度范圍*
波長范圍
F50
20nm-70μm
380-1050nm
F50-UV
5nm-40μm
190-1100nm
F50-NIR
100nm-250μm
950-1700nm
F50-EXR
20nm-250μm
380-1700nm
F50-UVX
5nm-250μm
190-1700nm
F50-XT
0.2μm-450μm
1440-1690nm
F50-s980
4μm-1mm
960-1000nm
F50-s1310
7μm-2mm
1280-1340nm
F50-s1550
10μm-3mm
1520-1580nm
包含的內容:
集成光譜儀/光源裝置
光纖電纜
4", 6" and 200mm 參考晶圓
TS-SiO2-4-7200 厚度標準
BK7 參考材料
整平濾波器 (用于高反射基板)
真空泵
備用燈
F60:生產環境的自動化厚度映射
Filmetrics F60-t系列可以像我們的F50產品一樣映射薄膜厚度和索引,但是它還包含許多專門用于生產環境的功能。其中包括自動缺口查找,自動機載基線測量,帶運動互鎖的封閉式測量平臺,預裝軟件的工業計算機以及升級到完全自動化晶圓處理的選項。
不同的F60-t儀器主要根據厚度和波長范圍進行區分。通常需要較短波長(例如F60-t-UV)來測量較薄的膜,而較長的波長允許測量更厚,更粗糙和更不透明的膜。
F60系列型號規格
*取決于薄膜種類
型號
厚度范圍*
波長范圍
F60-t
20nm-70μm
380-1050nm
F60-t-UV
5nm-40μm
190-1100nm
F60-t-NIR
100nm-250μm
950-1700nm
F60-t-EXR
20nm-250μm
380-1700nm
F60-t-UVX
5nm-250μm
190-1700nm
F60-t-XT
0.2μm-450μm
1440-1690nm
F60-t-s980
4μm-1mm
960-1000nm
F60-t-s1310
7μm-2mm
1280-1340nm
F60-t-s1550
10μm-3mm
1520-1580nm
包含的內容:
集成平臺/光譜儀/光源裝置(不含平臺)
4", 6" and 200mm 參考晶圓
TS-SiO2-4-7200 厚度標準
真空泵
備用燈
常見選購配件:
F3-sX 系列
F3-sX 系列能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳
波長選配
F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。 F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的zui佳化設計,F3-s1550則是為了最厚的薄膜設計。
附件
附件包含自動化測繪平臺,一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力最薄至15奈米。
F3-sX 系列 型號規格
*取決于薄膜種類
型號
厚度范圍*
波長范圍
F3-s980
10μm - 1mm
960-1000nm
F3-s1310
15μm - 2mm
1280-1340nm
F3-s1550
25μm - 3mm
1520-1580nm
包含的內容:
集成光譜儀/光源裝置
光斑尺寸10微米的單點測量平臺
FILMeasure 8反射率測量軟件
Si 參考材料
FILMeasure 獨立軟件 (用于遠程數據分析)
F3-XXT 系列
F3-XXT專門設計用于測量非常厚的層,尤其是粗糙的表面,例如在IC故障分析的硅背面去除中經常遇到的表面。使用UPG-RT-to-Thickness軟件模塊,可以在幾分之一秒內測量5μm至1000μm厚的硅。視頻成像可以與SampleCam-XXT一起添加。XY8自動階段可以添加自動XY映射功能。自動對焦選項也可用。
為了測量更薄的層(小于0.1μm),可以添加可見波長光譜儀。
與我們所有的厚度測量儀器一樣,F3連接到Windows?計算機的USB端口,并在幾分鐘內完成設置。
您可能感興趣的產品
-
Filmetrics 薄膜厚度測量系統F20,F30,F40,F50,F60,F3-XXT 系列
-
Filmetrics 膜厚儀 薄膜厚度測量儀 F20 F30 F40 F50 F60
-
Filmetrics F3-XXT 薄膜厚度測量儀
-
薄膜厚度測量系統
-
薄膜厚度測量系統
-
Filmetrics F40 光學膜厚測量儀
-
Filmetrics F40 光學膜厚測量儀
-
Filmetrics F40 光學膜厚測量儀
-
Filmetrics F20 光學膜厚測量儀
-
Filmetrics F20 光學膜厚測量儀
-
徠卡M822 F20紅光反射手術顯微鏡 Leica M822 F40 / F20
-
Filmetrics F20 白光干涉膜厚測量儀