海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 200，VPG+400 

大尺寸掩膜版生產工具
平行化曝光制程技術
大型光學系統上的創新與突破

的VPG（Volume Pattern Generator）系列-全球安裝已超過50臺。自成立以來，隨著技術的進步，VPG產能不斷得到進一步提升。整體的高速光學調制器有了飛躍性表現-升級后的系列稱之為：VPG+。

VPG+系統同步提供小面積和大面積曝光的設備。VPG+200和VPG+400是海德堡設備中zuixianjin的中小型高速曝光系統，以大面積VPG平臺所采用的運作原理，同步保留小面積光刻領域的高端技術。

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發的高速光學調制器，在速度最大化下，曝光時間可以達到原始VPG的三倍！強化了曝光性能與數據傳輸路徑。

功能和選項：配備性能
VPG+小面積系統采用波長355nm的高功率脈沖紫外激光光源。空氣軸承平臺能夠分別容納尺寸為200x200mm2或400x400mm2的基板。系統配備自動對準功能和集成計量系統。

應用：光罩制造和直接寫入
VPG+ 200和VPG+ 400將高分辨率的圖像結合優化速度，以達到最快光刻產能，成為光罩制作及其他直寫應用的設備，特別是使用SU-8或IP 3600等i-line光刻膠的應用。該系統可用于各種要求微觀結構的領域，典型應用包括MEMS、advanced packaging、3D integration、LED production、life science和compound semiconductors。

基板尺寸的400 x 400毫米2

降至0.75μm結構

地址網格減小到12.5 nm

多寫模式

自動加載系統

多種數據輸入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

網絡數據傳輸

計量校準系統

人工氣候室

階段地圖校正

邊緣檢測器單元

色差校正