半自動光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球領xian的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多企業、研發中心、研究所和高校所采用；以的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調；
- ZG技術：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，最大放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能；