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氮化硅膜

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詳細(xì)介紹

氮化硅膜主要用于納米技術(shù)研究;支撐強度高,TEM與原子力電鏡都可以使用。氮化硅膜極其穩(wěn)定可以抵抗溫度變化上升至1000攝氏度;但是,疏水性,如果需要親水,建議用刻蝕法:等離子刻蝕,增加電荷。膜厚:100nm、50nm、30nm;孔:1mm×mm 膜粗糙度2nm。

型號

名稱硅框架厚度(μm)窗口尺寸(mm)膜厚(nm)孔厚包裝/個產(chǎn)地
21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美國
21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美國
21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美國
21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美國
21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美國
21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美國
21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美國
4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI
4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI


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