法國Plassys微波等離子體化學氣相沉積系統 SSDR 150 

SSDR150 微波等離子體化學氣相沉積系統專門用于合成 CVD 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學級窗口。SSDR150 不斷優化的微波及等離子體設計，是一款可靠的、穩定的、長時間運行的金剛石薄膜生長系統，能夠wan美地適用于高校科研和企業生產。 
 

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SSDR150 系統特點

。 鋁合金腔體+內置石英管反應室，支持長時間高功率下工作

。工藝氣壓可達 350 mbar 或更高，可以高速率生長單晶

。微波源為 2.45GHz、最大功率 6 kW，高耦合效率

。標準配置 4 條氣路，最多可增加至 7 條氣路（摻雜氣路）

。2 英寸水冷樣品臺，高度電動可調、精度優于 10μm (可選)

。雙色紅外高溫計測試樣品表面溫度，范圍 475-1475 °C

。愛德華茲分子泵+ 干泵，**真空度≤ 3×10-7 mbar

。高水平金剛石生長工藝培訓及演示（內容根據應用而定）

。全自動控制、半自動和手動可用，圖形化操作界面（GUI）

。多級用戶設置和管理、遠程診斷和維護、數據導出接口

。多用途：高純度單晶、厚單晶、大單晶、摻雜、光學窗口

。設備維護少、安全、可靠、穩定、性價比高

應用領域

。切削刀具、耐磨涂層、熱沉材料、SAW

。光學窗口、激光晶體、電化學電極、CNT

。生物傳感器、微機電系統、光電探測器

。商用寶石、低壓高溫退火處理、量子計算
 

SSDR150 性能表現

多晶金剛石:

? 液氮溫度下 PL 檢測 無明顯氮
? 生長速率: 高達 10 μm/h, 取決于生長工藝