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Nanonex Lumina-200

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產品特點

機器掩膜防護工藝,提供完整的納米壓印解決方案

詳細介紹

產品概述

Lumina-200獨立式高分辨率光刻/對準器。 Lumina系列為電子,光電,MEMS和許多其他應用中的高分辨率,精確對準,接觸和接近光刻提供了高質量,可靠且經濟高效的解決方案。 它具有易于使用的界面,高精度的載物臺,高性能的光學元件和較小的占地面積。


主要特點

高分辨率光刻

高精度對準平臺

ZXJ的對準光學

精確的間隙控制

用戶友好的PC控制

占地面積小

具有成本效益的設計

背面對齊可選

應用領域:半導體器件 *微機電系統 *光電子學 *高級包裝 *電力設備


技術參數

手冊X-Y-?

帶稱重傳感器的電動Z

移動范圍: X和Y:1英寸

?:10度

Z:0.25英寸

掩膜加載能力

5”口罩標準

其他尺寸可選

基板裝載能力

4”標準

其他尺寸可選

對準 模式:接近、柔和、硬

對準光學

分割欄 5倍物鏡,1到7倍變焦

2個獨立的手動X,Y,Z顯微鏡移動 精細粗調

通過CCD相機成像

曝光系統

紫外線:汞燈,帶有可選的G線或I線過濾器

紫外線燈功率:500瓦

紫外線均勻照射

電動紫外線燈移動

具有Microsoft Windows的基于PC的控制計算機

用戶友好的控制軟件 PC控制的CCD視頻

紫外線燈曝光由電腦控制

占地面積:31英寸乘44英寸(780毫米乘1110毫米)


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