Desk V樣品制備系統配制用于蒸發和濺射，是一種高生產率的解決方案，可提供卓 越、一致和高度可重復的結果。

Desk V鍍膜系統提供兩種版本：Desk V HP和Desk V TSC。Desk V TSC，是渦輪分子泵濺射鍍膜機選項，專為高分辨率顯微鏡樣品設計，適用于氧化和非氧化金屬。Desk V磁控濺射裝置精確沉積導電鍍膜，其熱蒸發選項可以沉積薄碳層(使用棒材或紗線)。

用途：

SEM樣品制備（濺射和碳蒸發） TEM樣品制備（碳蒸發）   X射線微量分析樣品制備（碳蒸發）   高分辨率樣品制備

半導體   地質學  法醫學  材料科學  藥物  生命科學

優勢：

Desk V可沉積各種各樣的鍍膜材料（包括銥），而可調節的旋轉和傾斜臺確保鍍膜高度均勻，并具備較為佳的一致性和覆蓋性，即使在表面高度不規則的樣品上也是如此。 Desk V包括易于更換的插入式絕緣旋轉樣品臺，其即插即用風格可使您迅速上手使用。