- 2025-04-25 14:12:58反射全息光柵
- 反射全息光柵是一種基于全息技術制作的光學元件，它利用光的干涉和衍射原理，將特定的光波前信息記錄在全息材料中。該光柵能夠選擇性地反射或透射特定波長和角度的光，從而實現光的分束、合束、濾波等功能。反射全息光柵具有高衍射效率、高分辨率、窄帶寬等優良特性，廣泛應用于光譜分析、光通信、激光技術等領域，是現代光學系統中不可或缺的重要組件。
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- OCT光柵-拉曼光譜光柵-體積相位全息光柵
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- Thorlabs 全息光柵光譜儀，用于OCT，810-965nm
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廣州市明美光電技術有限公司
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- 昊量/auniontech 超高衍射效率全息光柵-(高靈敏度光譜儀用)
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反射全息光柵問答
- 2022-05-20 22:19:40明美透反射雙光路數字切片掃描儀
- 近年來，隨著信息技術的快速發展，數字切片掃描已逐漸應用于醫學教學、病理診斷、科研領域。目前市面上的數字切片掃描儀主要分為兩類：箱式和顯微鏡式，兩者對比的話優點各異，箱式的結構上會更簡便，但功能相對比較單一；顯微鏡式的相當于是在普通顯微鏡上的升級改造，功能更加多樣性。接下來我們介紹的是明美光電顯微鏡式數字切片掃描儀，它通過自主設計的光源與電子手輪，完整保留了傳統顯微鏡的手動交互操作，在此基礎上新增了切片全景掃描的功能，而且支持透反射雙光路顯微系統掃描，既可以掃描透明的病理切片，亦可以掃描不透明的地質礦石類標本，應用十分廣泛。20X物鏡病理切片全景掃描圖（透射光路）20X物鏡礦石標本全景掃描圖（反射光路）明美數字切片掃描儀組成研究級正置顯微鏡機身，也可采用BX41、BX43、BX53等進口主機；標配透射光源，可選配反射照明模塊。高精度電動平臺，XY電動平臺行程80*50mm，閉環定位精度0.5μm；Z軸閉環定位精度0.1μm，步進高幀率掃描相機，掃描幀率＞120fps，分辨率1920*1200，曝光時間＜7μs，由于標配的是雙光路C接口，還預留一個接口可以用于安裝大靶面顯微相機，保留原顯微鏡單視野高分辨率拍照功能?？焖贌o縫拼接系統，采用特殊優化的圖像拼接算法，針對月牙形，U型等各種異形切片樣品進行過拼接優化，能夠在掃描成像后秒出無縫全局大圖；15mm×15mm成像區域，10X物鏡掃描成像速度豐富的切片圖像管理功能，采用金字塔圖像數據結構，在不同放大倍率的瀏覽需求下按需調用不同分辨率的圖像，縮放瀏覽毫無卡頓感；提供API可獲取圖像數據底層Raw Data用于AI計算。掃描成像之前，應先通過顯微鏡閱片，快速確定切片是否可用于掃描以及需要掃描的區域（局部或全景），然后通過全自動顯微鏡系統掃描玻片采集得到高分辨率數字圖像，再用計算機軟件對這些圖像自動進行無縫隙拼接和處理，并獲得全視野數字化切片，可以自由觀察切片的任意位置，進行無限倍率放大、縮小或連續變倍觀察，這樣既能看到切片全貌，又能從細微處觀察病理變化，不再受鏡下單一視野的局限。 顯微數字切片掃描儀的切片信息長期保存，實現了數字化、信息化、網絡化，可以根據需求建立私有切片庫，在沒有顯微鏡和切片的條件下也能進行觀察；在實際使用過程中，針對不同的工作目的，需要有取舍的來選擇是采用傳統顯微鏡觀察模式還是采用掃描采圖模式，才能發揮出顯微數字切片掃描儀的技術優勢。來源：https://www.mshot.com/article/1367.html
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- 2018-11-25 07:53:26全息光柵的特點
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- 2020-09-16 09:41:32【課程推薦】KLA Instruments | Webinar課程：反射和透射：兩個優于一個
- 優尼康課程推薦KLA Instruments | Webinar課程：反射和透射：兩個優于一個?！m合新老客戶了解學習膜厚儀的使用；加深對產品的理解。 FILMETRICS同時測量光譜反射和透射對分析光學薄膜來講是非常重要的。歡迎來到F10-RT獨特的境界里。顯然這會限制我們只能用透明基底材料， 但這會讓我們更準確地測量光學系數 （特別是消光系數）。除五彩繽紛的介電薄膜外我們還會討論上百納米厚的金屬薄膜。*點擊“立刻注冊”即可預約線上課程 Michelle Shi應用工程師 @KLA InstrumentsMichelle Shi 是KLA Instrument Group Filmetrics 光學輪廓儀以及薄膜測量儀的應用工程師。Michelle 于2019年5月加入KLA公司, 擔任Filmetrics薄膜測量以及光學輪廓產品的應用，客戶支持以及業務開發，主要支持Profilm3D光學輪廓儀以及Filmetrics全系列薄膜測量產品。在加入KLA之前，Michelle在美國俄亥俄大學獲得物理學碩士學位并在NASA Ames硅谷研究ZX進行科學研究，以及在高新科技初創企業kaiaTech擔任高級工藝工程師負責半導體薄膜材料的研發及新應用。
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- 2020-10-16 11:46:53伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術獲取高反射吸收Ta2
- 伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術獲取高反射吸收Ta2O5薄膜為了獲取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射沉積技術鍍制 Ta2O5 薄膜進行研究. 其系統工作示意圖如下： 該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺等部分組成. 其中雙離子源中的一個離子源適用于濺射靶材, 另個離子源是用于基材的預清洗. 用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數如下: 伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數：射頻離子源型號RFICP 380Discharge 陽極射頻 RFICP離子束流>1500 mA離子動能100-1200 V柵極直徑30 cm Φ離子束聚焦流量15-50 sccm通氣Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型壓力< 0.5m Torr長度39 cm直徑59 cm中和器LFN 2000 理由：聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染 用于預清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:離子源型號 霍爾離子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC電壓50-250V50-300V50-250V電流20A10A15A散射角度>45可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others氣體流量5-100sccm高度6.0“直徑9.7“水冷可選 其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術參數如下：進氣法蘭氮氣抽速 N2,l/s極限真空 hpa前級泵型號前級泵抽速 m3/h前級真空安全閥DN 40 ISO-KF35< 1X10-7Pascal 202118AVC 025 MA 運行結果：伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜. 伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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- 2020-04-24 21:51:58AR增透抗反射減反膜基本原理 瑞研光學
- 減反射膜是以光的波動性和干涉現象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜，使得膜層前后表面產生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達到減反射的效果。1）振幅條件膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。2）位相條件膜層厚度應為基準光的 1/4 波長。d=λ/4 λ=555nm 時，d=555/4=139nm對 于 減 反 射 膜 層 ， 許 多 眼 鏡 片 生 產 商 采 用 人 眼 敏 感 度 較 高 的 光 波 （ 波 長 為555nm)。當鍍膜的厚度過薄（〈139nm),反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到沒有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色，但殘留顏色哪種是Z好的，其實并沒有標準，目前 主要是以個人對顏色的喜好為主，較多為綠色的色系。 我們也會發現殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此 在鏡片ZY部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。
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滬公網安備 31011502008050號