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2025-01-10 17:02:33低溫物鏡兼容真空罩
低溫物鏡兼容真空罩是一種專為低溫環境設計的實驗裝置,它能夠確保物鏡在真空及低溫條件下保持正常性能。該裝置采用特殊材料制成,具有良好的保溫和真空密封性能,有效隔絕外界熱量和氣體對物鏡的影響。它廣泛應用于低溫物理、材料科學、生物醫學等領域的實驗研究中,特別是在需要高清晰度成像和精確測量的場合。通過使用低溫物鏡兼容真空罩,研究人員能夠在極端條件下獲取更準確的實驗數據和更清晰的觀測圖像。

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2023-08-12 00:36:50兼容線上與本地開會的視頻會議軟件
會議室改造需要在符合用戶需求的同時充分利用原有設備。上品興業氟塑料(嘉興)有限公司在進行會議室改造時使用連通寶視頻會議系統,實現遠程視頻和本地會議都能用。用戶需求:公司有100平米的會議室需要改造,實現既可以召開本地工作會議,也可以進行遠程視頻會議。本地會議要實現多電腦同時投屏。遠程會議時要每個人發言對方聽見清晰,攝像頭能自動指向發言者拍攝。視頻會議方案:采用中控系統,每個座位上一個鵝頸麥,音響喇叭擴聲系統,音頻處理器回音消除,流媒體網關無線投屏設備,20倍云臺變焦攝像頭可遠距離拍攝。遠程會議時:發言人按下鵝頸麥開關時攝像頭會自動定位拍攝,攝麥聯動,回音消除處理讓雙方清晰交流。本地會議時:可以實現多電腦投屏。實現一鍵關閉所有設備電源。視頻會議方案特色:在內網部署會議系統操作簡單穩定可靠支持無線攝像頭支持各種會議軟件開會所以,連通寶視頻會議軟件既可以在本地會議室使用,也可以在線使用。投入更低,更好提供企業會議效率。
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2023-06-25 11:49:58課堂 | 目鏡、物鏡和光學畸變
對于大多數顯微鏡應用,通常只有兩套光學器件需要由用戶調整,即物鏡和目鏡。當然,這是假設顯微鏡已經校正了科勒照明,即調整了聚光鏡和光闌。本文首先介紹了目鏡組件以及如何正確調整它們以適應你的眼睛。其次是物鏡,我們將探討光學畸變和四種最常見的物鏡,這些物鏡均經過校正以克服這些異常現象。在制造商的設計中,顯微鏡的目鏡和物鏡是一個組合,并在光學上相互補充。如果你出于任何原因更換顯微鏡之間的目鏡或物鏡,那么應該記住這一點。為獲得最 佳的樣本圖像,顯微鏡的物鏡和目鏡必須是一個和諧的工作組合。購買完整的顯微鏡時,光學部件相互匹配,為用戶提供最 佳的觀察條件。如果你在組裝一個定制的研究級顯微鏡,那么選擇的物鏡將決定適合的目鏡,反之亦然。目 鏡   目鏡是我們觀察最 終樣本圖像的光學鏡片(見圖1)。這些光學器件有時被稱為“接目鏡”或“目鏡”。放大率除了取決于物鏡的選擇,還要考慮目鏡,它的放大率通常是10的倍數。目鏡是顯微鏡的一個看似簡單的光學部件。一些基礎款目鏡確實是由一個頂部和底部安裝鏡片的金屬管組成但許多研究級目鏡由多組相互配合的鏡片組成,它提供樣本的校正視圖,并補充物鏡的特性。無論目鏡的組件設計如何,金屬外殼的兩端只有兩個用戶可以看到的鏡片。觀察最 終圖像的鏡片(最接近眼睛)被稱為“目鏡”,另一端的鏡片(朝向顯微鏡主體)被稱為“場鏡”。圖1:顯微鏡的最 終圖像可以用目鏡觀察,也叫接目鏡。你通常會在目鏡周圍發現橡膠或塑料眼罩(見圖2)。這些眼罩有多種功能。它們會阻擋一些環境光線,讓觀察者可以更清楚地看到感興趣的樣本。此外,它們還將用戶限制在與目鏡的最 佳距離內。如果您佩戴眼鏡,可以簡單地將它們卷到目鏡的頂部,或者摘掉眼鏡。關于顯微鏡衛生需注意的一點:如果你在共享的實驗室或設施中使用顯微鏡,衛生和清潔都是重要的因素。一個重要的考慮因素是眼部感染。如果你不幸有眼部感染,則應避免使用共享顯微鏡,直到感染癥狀完全消失。眼部感染可能具有高傳染性,很容易傳播給其他顯微鏡使用者。無論您的眼睛是否健康,您都應該將目鏡和眼罩(以及整個顯微鏡)保持在清潔狀態,以便于下一個用戶的使用。目鏡屈光度的調整  顯微鏡用戶需要調整目鏡適應自己的視力。這被稱為“屈光度調節”,用于糾正眼睛之間的焦點和視覺差異(見圖2)。除非您有完 美的正常視力(也稱為“20/20視力”),否則為更清晰地觀察樣本,您需要完成這一簡單的調整。在調整屈光度之前,首先應調整目鏡之間的距離(假設您使用的是雙目顯微鏡)以適應使用者的生理結構。雙目目鏡安裝在一個水平的“滑塊”上,兩個目鏡可以活動以適應眼睛之間的距離。或者,每個目鏡都安裝在獨立的外殼中,能夠以半圓形的旋轉方式移動,配合使用者眼睛之間的距離。設置好物理距離后,就可以調節屈光度。檢查每一個目鏡時,您會注意到至少有一個目鏡的金屬體或外殼周圍有一個滾花環(另一個也可以是固定焦點目鏡)。僅通過固定目鏡向下看,并使用顯微鏡的主調焦輪讓樣本進入清晰的焦點。閉合固定焦距目鏡上的眼睛,僅使用可調節光圈的目鏡來觀察樣本。保持樣本的原始焦點的同時,慢慢轉動屈光度環,直到樣本進入清晰的焦點。當你睜開雙眼時,樣本現在應該處于清晰的焦點。調整屈光度厚,每個所選物鏡的設置都是一樣的。圖2:大多數目鏡都有可移動或可彎曲的眼罩,用于阻擋一些環境光線。此外,它們還可以將用戶限制在與目鏡的最 佳距離內。佩戴眼鏡的用戶應該摘下眼罩。借助屈光度調節,可以根據用戶的屈光度對目鏡進行個性化設置。光學畸變  顯微鏡(以及在本文的范圍內)有兩種主要類型的光學畸變:色差和幾何像差。幾何像差(也被稱為“單色差“或“球面像差”)也被稱為“塞德爾像差”。菲利普·路德維希·馮·塞德爾(Philipp Ludwig von Seidel)(1821-1896)是一位德國數學家,他在1857年確定了五種幾何像差(球差、慧差、像散、場曲和畸變)。一般來說,幾何/單色/賽德爾像差是由于鏡片的結構和幾何形狀,以及光在通過鏡片時的折射和反射方式而產生。考慮到所有可能通過曲面鏡片的光波,通過鏡片中心的光波將比通過曲面鏡片邊緣的光波的折射率低。通過鏡面之前平行的光波不會匯聚到一個焦點上,而是作為不同的點沿光軸傳播(圖3)。圖3:球面像差描述了這樣一個事實:通過鏡片中心的光波比通過曲面鏡片邊緣的光波的折射率要小。因此,在通過透鏡之前是平行的光波不會匯聚到一個焦點上。色差主要是由于鏡片的材料而發生的。白光是由許多不同的波長/顏色組成的,當它通過凸透鏡時,它被分割成不同的組成部分。波長的分裂意味著,一旦光線通過透鏡,各組成顏色就不會彼此聚焦在同一個匯聚點上(圖4)。 圖4:通過凸透鏡的白光被分割成不同的波長,并在不同程度上被折射。因此,它們不會匯聚在同一個焦點上。這種現象被稱為色差。物 鏡圖5:一個帶有校正環的甘油浸泡物鏡。顯微鏡物鏡的制造和校正是為了在每個光學部件中考慮一個或多個這樣的像差。在物鏡外殼上蝕刻的信息中(除了放大率、物鏡類型、數值孔徑(NA)等),還包括有關光學校正的信息(見圖3)。盡管有許多可用的光學校正,但本文將探討可能遇到和使用的四種最常見的光學校正。除了目鏡之外,物鏡看起來也很簡單。物鏡兩端的兩個透鏡被稱為“前透鏡”(離樣本最近)和“后透鏡”。后透鏡在使用過程中不可見,因為它面向顯微鏡的主體。大多數物鏡由一系列相對復雜的鏡片組成,鏡片相互補充,糾正其他扭曲的光學像差。消色差物鏡  最常見的校正顯微鏡物鏡是“消色差”物鏡。這種物鏡的鏡筒上有縮寫“Achro”或“Achromat”。這些物鏡校正“軸向色差”。當白光通過凸透鏡時,會發生這種像差。因此,白光被分割成紅、綠和藍色波長。這種分裂意味著這些波長不會匯聚到光軸上的同一個焦點上(見圖4)。如果使用沒有校正軸向色差的物鏡觀察樣本,那么樣本周圍會出現彩色條紋和圖像的模糊。非色差物鏡只校正了兩個波長(紅色和藍色),使其與綠色波長的焦點大致相同。此外,消色差物鏡的球面像差也只針對一種顏色進行了校正。平場消色差物鏡  更高一級的校正是在“平場消色差”物鏡中發現的。這些通常由物鏡筒上的縮寫“平場消色差”或“Achroplan”來識別。除了校正軸向色差外,這些物鏡還校正一種被稱為“場曲率”的光學現象。當光線通過曲面鏡片時,便會發生這種現象。投射的圖像導致樣本的視圖發生彎曲。如果使用未校正視場曲率的物鏡觀察樣本,會導致整個視場的焦點不均勻。視場的邊緣或中心可能被聚焦,但不是同時聚焦。雖然這不會影響樣本的日常觀察和檢查,但如果你想拍攝用于發表的圖像,就會有問題。在這種情況下,建議使用平場消色差物鏡校正平場,實現整個圖像視圖的均勻聚焦。半復消色差物鏡  再高一級的校正物鏡是“半復消色差”或“螢石”物鏡。這些物鏡由物鏡筒上的縮寫“Fluar”、“Fluor”、“Fluo”或“Fl”來識別。術語“螢石”可以追溯到一個時期,當時這種鏡片是由螢石制造的,它是一種氟化鈣礦物。在商業上,這種礦物也被稱為“螢石”,并且仍然被用于制造一些半復消色差鏡片,盡管現在大多數都是由合成材料制成的。半復消色差物鏡對一種或兩種組成色進行校正,確保不同的光波集中在一起,成為光軸上所謂的“最小混淆圈”。除了上述外觀上的縮寫外,還有一些帶有“Plan FL”或“Plan Fluor”名稱的物鏡。這些物鏡不僅校正了球差和色差,而且還校正了視場曲率。復消色差物鏡  最 高級別的校正物鏡(反映在這些光學器件的成本上)是“復消色差”物鏡。這些物鏡在鏡筒上有“Plan Apochromat”、“PL APO”或“Plan Apo”的縮寫(見表1)。這些物鏡對場曲率進行了校正(因此縮寫名稱中的“Plan”),并對紅、綠和藍色波長進行了色度校正。此外,復消色差物鏡還對三個波長進行了球面校正。在復消色差透鏡中的高水平校正,相比校正較少的物鏡,在同等放大率下,可產生更高的NA。徠卡的校正物鏡關于徠卡不同類別校正物鏡的概述,可以通過以下鏈接找到(見表1)。此外,通過填寫頁面上的在線表格,徠卡可以幫助您找到您的應用所需的合適物鏡。表1:國際標準化組織(ISO)區分了三組物鏡類別,它們在色度校正的質量上有所不同。消色差、半復消色差和復消色差。徠卡的命名法進一步區分了這些組別,例如,它們的場平度、透射率等。徠卡物鏡上使用的進一步的縮寫。表2:特別適用于特定對比法的物鏡都有相應的標記。表3:必須與某一物鏡一起使用的浸泡介質在物鏡上標明。表4:徠卡物鏡上提到的更多標簽。
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2023-05-31 14:48:32如何監控醫用泡罩包裝的透氧性能?
泡罩包裝是將產品封合在透明塑料薄片形成的泡罩與底板之間的一種包裝方法。又稱水泡包裝、PTP包裝。包裝時,將藥品放入硬片的水泡眼中,然后與藥用鋁箔進行熱封,從而形成了各水泡眼相互獨立的泡罩包裝。具有優良的遮光性、阻氣性、防潮性和保味性等優點,是藥包裝的主要形式之一。現實中藥物易受到氧氣的影響造成藥品變色變質等情況,這不但影響藥品的藥效和保質期,還會嚴重影響藥品企業的品牌形象,使企業效益下滑。為了實現包裝質量的全面監控,制藥企業以及藥包材生產企業必須擁有專業、科學、便捷的泡罩包裝透氧檢測儀器與管控手段。目前有關包裝材料的氧氣透過率測試方法主要為庫侖計檢測法,ASTM D3985標準介紹了 利用電量分析法(庫倫法)檢測薄膜、片材的透氧性,適用于薄模、薄片、層壓膜、擠出膜在干燥狀態下的透氧性。國內標準也有很多相關標準,例如2015年開始實施的GB/T 31354《包裝件和容器氧氣透過性測試方法 庫侖計檢測法》規定了在穩態條件下采用庫侖計法對包裝件和容器氧氣透過性進行測試的試驗方法,適用于塑料及其復合材料包裝件和容器的氧氣透過性的測試;2022年開始實施的GB/T 19789《包裝材料 塑料薄膜和薄片氧氣透過性試驗 庫侖計檢測法》規定了庫侖計檢測法測試塑料薄膜和薄片等包裝材料的氧氣透過性的試驗方法,此法適用于塑料薄膜、薄片、復合材料、紙塑復合材料、塑料涂覆織物等包裝材料的氧氣透過性的測試。賽成儀器自主研發的泡罩包裝透氧檢測儀器,又稱氧氣透過率測試儀。儀器采用庫侖氧氣傳感器和等壓法測試原理,參照ASTM D3985等標準設計制造,適用于高、中氧氣、空氣阻隔材料,用于測試其氧氣透過率。多腔獨立測試、高精度傳感器、自動化溫濕度控制、滿足各種試驗條件下的測試,適應用于食品、藥品、醫療器械、日化、光伏、電子、工業品等領域的薄膜、片材、容器及相關材料的氧氣透過性能測試。試驗過程(1) 將單獨的一個泡罩包裝樣品固定在特殊夾具上,使其固定在儀器專用的容器測試托盤裝置上,密封完成后,利用管路將其連接在儀器上,再用密封袋將樣品及托盤裝置進行密封包扎。(2) 設置試樣名稱、試驗溫度、試驗濕度等參數。(3) 點擊“開始試驗”選項。(4) 啟動氣源,調節濕度以及載氣流量。(5) 試驗結束后,儀器自動計算并顯示試驗結果。總而言之,氧氣透過率測試儀作為透氧性測試的專業設備,是監控泡罩包裝透氧性的重要依據,也是藥品企業應加強泡罩包裝整體阻氧性的主要手段。賽成儀器一直致力于醫藥包裝質量檢測的技術研發與服務,擁有為藥品包裝量身打造的全套專業檢測設備,檢測項目涵蓋廣泛,能夠為企業提供合理、精準的包裝質量解決方案。賽成儀器立足濟南,服務寰球。公司始終秉承持續創新的經營理念,用匠心鑄就精品,以品質贏得信賴。賽出品質,成就共贏!期待與行業內的企事業單位增進交流和合作。
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2022-07-20 13:49:59低溫凍存盒,您了解多少?
  低溫凍存盒,您了解多少?  超低溫凍存系列:超低溫冰箱凍存架/液氮罐吊架,凍存盒,凍存管,有效實現超低溫冰箱/液氮罐中細胞凍存管的化存儲和最方便的樣品管理。下面由BUNSEN本生小編詳解:  1.凍存架系列  超低溫冰箱凍存架用于冰箱冰柜內生物試樣、醫學臨床樣品的隔離存儲和管理,優化存儲空間。適用于Themo Fisher、Haier、Sanyo、Eppendorf、Esco、Meiling、MVE等國內外各品牌型號冰箱、冰柜及液氮容器。  凍存試管被廣泛用于活性凍存中,避免傷及細胞物質和細胞成分的潛在污染的各種實驗,而 sarstedt凍存盒適用于凍存管,可深凍儲存。接下來我們一起了解sarstedt凍存盒的優點。  1、高質量,經久耐用的聚碳酸酯儲存盒適用范圍低至-196攝氏度;  2、每個試管槽都有數字編碼,便于樣品的快速確認;  3、透明清晰的蓋子和有大孔的彩色底座便于快速流通;  4、多規格定制盒適用于己于1.2/2.0/3.5/5毫升的凍存管;  5、規格有5*5,9*9,10*10,可用于各種儲存選擇;  6、可高壓消毒,121攝氏度,20分鐘。  低溫凍存盒,您了解多少?本生一直視質量控制為企業的生命,追求企業競爭力的不斷提升。公司在經營中始終秉承:遵紀守法,嚴于律己,寬仁以待,敢于承擔的企業精神作為標準,以過硬的質量和優良的服務來維護和拓展市場,較大限度的滿足客戶的需求。與客戶的共贏,是我們的發展目標。本生!您信任的合作伙伴。我們愿與您真誠合作,共創美好的未來。
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2023-02-15 14:54:00真空蒸發鍍膜技術原理
                   真空蒸發鍍膜技術原理 一、蒸發鍍膜簡述:真空蒸發鍍膜(簡稱真空蒸鍍)是指在真空室中,加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到固體(稱為襯底或基片)表面,凝結形成固態薄膜的方法。由于真空蒸發法或真空蒸鍍法主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生,所以又稱熱蒸發法或者熱蒸鍍,所配套的設備稱之為熱蒸發真空鍍膜機。這種方法zui早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。 盡管后來發展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優越,但真空蒸發技術仍有許多優點,如設備與工藝相對比較簡單,即可鍍制非常純凈的膜層,又可制備具有特定結構和性質的膜層等,仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來,由于電子轟擊蒸發,高頻感應蒸發及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用,使這一技術更趨完善。  近年來,該法的改進主要是在蒸發源上。為了抑制或避免薄膜原材料與蒸發加熱器發生化學反應,改用耐熱陶瓷坩堝,如 BN坩堝。為了蒸發低蒸氣壓物質,采用電子束加熱源或激光加熱源。為了制造成分復雜或多層復合薄膜,發展了多源共蒸發或順序蒸發法。為了制備化合物薄膜或抑制薄膜成分對原材料的偏離,出現了反應蒸發法等。 二、熱蒸鍍工作原理: 真空蒸發鍍膜包括以下三個基本過程∶(1)加熱蒸發過程。包括由凝聚相轉變為氣相(固相或液相→氣相)的相變過程。每種蒸發物質在不同溫度時有不相同的飽和蒸氣壓;蒸發化合物時,其組分之間發生反應,其中有些組分以氣態或蒸氣進入蒸發空間。(2)氣化原子或分子在蒸發源與基片之間的輸運過程,即這些粒子在環境氣氛中的飛行過程。飛行過程中與真空室內殘余氣體分子發生碰撞的次數,取決于蒸發原子的平均自由程,以及從蒸發源到基片之間的距離,常稱源-基距。(3)蒸發原子或分子在基片表面上的沉積過程,即是蒸氣凝聚、成核、核生長、形成連續薄膜。由于基板溫度遠低于蒸發源溫度,因此,沉積物分子在基板表面將直接發生從氣相到固相的相轉變過程。將膜材置于真空鍍膜室內,通過蒸發源加熱使其蒸發,當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時,蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后,在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子(主要是殘余氣體分子)的碰撞阻礙,可直接到達被鍍的基片表面,由于基片溫度較低,便凝結其上而成膜,為了提高蒸發分子與基片的附著力,對基片進行適當的加熱是必要的。為使蒸發鍍膜順利進行,應具備蒸發過程中的真空條件和制膜過程中的蒸發條件。 蒸發過程中的真空條件:真空鍍膜室內蒸汽分子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離(稱做蒸距)時,就會獲得充分的真空條件。為此,增加殘余氣體的平均自由程,借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞概率,把真空鍍膜室抽成高真空是非常必要的。否則,蒸發物原子或分子將與大量空氣分子碰撞,使膜層受到嚴重污染,甚至形成氧化物;或者蒸發源被加熱氧化燒毀;或者由于空氣分子的碰撞阻擋,難以形成均勻連續的薄膜。 三、真空蒸鍍特點:  優點:設備比較簡單 、操作容易;制成的薄膜純度高、質量好,厚度可較準確控制;成膜速率快,效率高;薄膜的生長機理比較簡單;缺點:不容易獲得結晶結構的薄膜;所形成的薄膜在基板上的附著力較小;工藝重復性不夠好等。  四、蒸發源的類型及選擇: 蒸發源是用來加熱膜材使之氣化蒸發的裝置。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱,電子束加熱,感應加熱,電弧加熱和激光加熱等多種形式。電阻加熱蒸發裝置結構較簡單,成本低,操作簡便,應用普遍。電阻加熱式蒸發源的發熱材料一般選用W、Mo、Ta、Nb等高熔點金屬,Ni、Ni-Cr合金。把它們加工成各種合適的形狀,在其上盛裝待蒸發的膜材。一般采用大電流通過蒸發源使之發熱,對膜材直接加熱蒸發,或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物(如Al2O3,BeO)等材料制成的坩堝中進行間接加熱蒸發。采用電阻加熱法時應考慮的問題是蒸發源的材料及其形狀,主要是蒸發源材料的熔點和蒸氣壓,蒸發源材料與薄膜材料的反應以及與薄膜材料之間的濕潤性。因為薄膜材料的蒸發溫度(平衡蒸氣壓為1. 33 Pa時的溫度)多數在1 000 ~2 000 K之間,所以蒸發源材料的熔點需高于這一溫度。而且.在選擇蒸發源材料時必須考慮蒸發源材料大約有多少隨蒸發而成為雜質進入薄膜的問題。因此,必須了解有關蒸發源常用材料的蒸氣壓。為了使蒸發源材料蒸發的分子數非常少,蒸發溫度應低于蒸發源材料平衡蒸發壓為1. 33×10-6Pa時的溫度。在雜質較多時,薄膜的性能不受什么影響的情況下,也可采用與1. 33×10-2Pa對應的溫度。綜上所述,蒸發源材料的要求:1、高熔點:必須高于待蒸發膜材的熔點(常用膜材熔點1000~2000℃)2、飽和蒸氣壓低:保證足夠低的自蒸發量,不至于影響系統真空度和污染膜層3、化學性能穩定:在高溫下不應與膜材發生反應,生成化合物或合金化4、良好的耐熱性5、原料豐富、經濟耐用 蒸發材料對蒸發源材料的“濕潤性”:選擇蒸發源材料時,必須考慮蒸鍍材料與蒸發材料的“濕潤性”問題。蒸鍍材料與蒸發源材料的濕潤性”與蒸發材料的表面能大小有關。高溫熔化的蒸鍍材料在蒸發源上有擴展傾向時,可以認為是容易濕潤的;如果在蒸發源上有凝聚而接近于形成球形的傾向時,就可以認為是難干濕潤的在濕潤的情況下,材料的蒸發是從大的表面上發生的且比較穩定,可以認為是面蒸發源的蒸發;在濕潤小的時候,一般可認為是點蒸發源的蒸發。如果容易發生濕潤,蒸發材料與蒸發源十分親和,蒸發狀態穩定;如果是難以濕潤的,在采用絲狀蒸發源時,蒸發材料就容易從蒸發源上掉下來。 五、合金與化合物的蒸發: 1、合金的蒸發:采用真空蒸發法制作預定組分的合金薄膜,經常采用瞬時蒸發法、雙蒸發源法。分餾現象:當蒸發二元以上的合金及化合物時,蒸發材料在氣化過程中,由于各成分的飽和蒸氣壓不同,使得其蒸發速率也不同,得不到希望的合金或化合物的比例成分,這種現象稱為分餾現象。(1)瞬時蒸發法:瞬時蒸發法又稱“閃爍”蒸發法。將細小的合金顆粒,逐次送到非常熾熱的蒸發器中,使一個一個的顆粒實現瞬間完全蒸發。關鍵以均勻的速率將蒸鍍材料供給蒸發源粉末粒度、蒸發溫度和粉末比率。如果顆粒尺寸很小,幾乎能對任何成分進行同時蒸發,故瞬時蒸發法常用于合金中元素的蒸發速率相差很大的場合。優點:能獲得成分均勻的薄膜,可以進行摻雜蒸發等。缺點:蒸發速率難以控制,且蒸發速率不能太快。 (2)雙源蒸發法:將要形成合金的每一成分,分別裝入各自的蒸發源中,然后獨立地控制各個蒸發源的蒸發速率,使達到基板的各種原子與所需合金薄膜的組成相對應。為使薄膜厚度分布均勻,基板常需要進行轉動。2、化合物的蒸發:化合物的蒸發方法:(1)電阻加熱法(2)反應蒸發法(3)雙源或多源蒸發法(4)三溫度法(5)分子束外延法反應蒸發法主要用于制備高熔點的絕緣介質薄膜,如氧化物、氮化物和硅化物等。而三溫度法和分子外延法主要用于制作單晶半導體化合物薄膜,特別是III-V族化合物半導體薄膜、超晶格薄膜以及各種單晶外延薄膜等。 將活性氣體導入真空室,使活性氣體的原子、分子和從蒸發源逸出的蒸發金屬原子、低價化合物分子在基板表面淀積過程中發生反應,從而形成所需高價化合物薄膜的方法。不僅用于熱分解嚴重,而且用于因飽和蒸氣壓較低而難以采用電阻加熱蒸發的材料。經常被用來制作高熔點的化合物薄膜,特別是適合制作過渡金屬與易分解吸收的02, N2等反應氣體所組成的化合物薄膜(例如SiO2、ZrN、AlN、SiC薄膜)。在反應蒸發中,蒸發原子或低價化合物分子與活性氣體發生反應的地方有三種可能,即蒸發源表面、蒸發源到基板的空間和基板表面。
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