- 2025-01-21 09:30:56聚焦離子束
- 聚焦離子束（FIB）是一種利用靜電場或電磁場將離子束聚焦成非常小的斑點，進行精確加工的技術。它基于離子與物質相互作用原理，通過離子束轟擊樣品表面，實現微納加工、刻蝕、沉積等功能。FIB廣泛應用于半導體行業、材料科學、生物醫學等領域，用于器件修改、截面制備、三維納米結構制造等，是納米科技研究中的重要工具。
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聚焦離子束資訊
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- 預算750萬元 北京大學深圳研究生院采購聚焦離子束掃描電子顯微鏡
- 近日，北京大學深圳研究生院就聚焦離子束掃描電子顯微鏡采購進行公開招標，并于2024年11月29日 08點30分開標。
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- 預算340萬元 中國科學院青島生物能源與過程研究所 聚焦離子束掃描電子顯微鏡采購
- 中國科學院青島生物能源與過程研究所聚焦離子束電子束雙束掃描電子顯微鏡采購項目 招標項目的潛在投標人應在http://www.oitccas.com （線上）獲取招標文件，并于2025年05月13日 0
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- 本文中，我們介紹了使用EBSD高效拋光兩個通過非聚焦離子束研磨制備的高難度樣本的案例。
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- 美國FEI/賽默飛聚焦離子束/掃描電鏡雙束系統 供應
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聚焦離子束文章
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- ZEISS聚焦離子束掃描電鏡Crossbeam 350
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
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- 賽默飛世爾 雙束聚焦離子束掃描電鏡 Arctis 冷凍等離子體聚焦離子束掃描電鏡
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賽默飛電子顯微鏡
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- Hitachi聚焦離子束系統 MI4050
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似空科學儀器（上海）有限公司
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似空科學儀器（上海）有限公司
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- FB2200聚焦離子束系統
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柯岷國際貿易(上海)有限公司
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聚焦離子束問答
- 2020-07-14 10:37:29JIB-4000 聚焦離子束加工觀察系統升級為JIB-400
- JIB-4000 聚焦離子束加工觀察系統升級為JIB-4000PLUSJIB-4000 聚焦離子束加工觀察系統升級了，新型號：JIB-4000PLUS。該設備為單束FIB裝置，不僅可以對樣品表面進行SIM觀察 、研磨、及碳和鎢等沉積，還可以為TEM制備薄膜樣品和截面樣品；可選3D觀察功能、自動TEM樣品制備功能，能對應多種制樣需求。
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- 2018-11-30 07:22:54聚焦離子束的工作原理
307人看過
- 2018-12-15 01:16:57聚焦離子束系統與掃描電子顯微鏡各有哪些功能和特點
258人看過
- 2022-11-25 16:10:30離子束刻蝕（IBE）技術研究
- 離子束刻蝕（IBE）技術研究 1.離子束刻蝕（IBE）技術的原理？離子束刻蝕（IBE，Ion Beam Etching）也稱為離子銑（IBM，Ion Beam Milling），也有人稱之為離子濺射刻蝕，是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，氬離子經過陽極電場的加速對樣品表面進行物理轟擊，以達到刻蝕的作用。刻蝕過程即把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發生濺射，達到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。工件表面有制備溝槽的掩膜，最后裸露的部分就會被刻蝕掉，而掩膜部分則被保留，形成所需要的溝槽圖形。離子束刻蝕使高方向性的中性離子束能夠控制側壁輪廓，優化納米圖案化過程中的徑向均勻性和結構形貌。另外傾斜結構可以通過傾斜樣品以改變離子束的撞擊方向這一獨特能力來實現。在離子束刻蝕過程中，通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。為了便于后面光刻膠的剝離清洗，一般需要對樣品臺進行冷卻處理，使整個刻蝕過程中溫度控制在一個比較好的范圍。 圖1 離子束刻蝕設備結構圖圖2 離子束刻蝕工藝原理圖 2.離子束刻蝕（IBE）適合的材料體系？可用于刻蝕加工各種金屬（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導體、聚合物、陶瓷、紅外和超導等材料。目前離子束刻蝕在非硅材料方面優勢明顯，在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。 3. 離子束刻蝕（IBE）技術的優點和缺點？a 優點： （1）方向性好、無鉆蝕、陡直度高； （2）刻蝕速率可控性好，圖形分辨率高，可達0.01um； （3）屬于物理刻蝕，可以刻蝕各種材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻膠等）； （4）刻蝕過程中可改變離子束入射角來控制圖形輪廓，加工特殊的結構；b 缺點： （1）刻蝕速率慢、效率比ICP更低； （2）難以完成晶片的深刻蝕； （3）屬于物理刻蝕，常常會有過刻的現象。 4.反應離子束刻蝕（RIBE）技術簡介及優點？反應離子束刻蝕（RIBE）是在離子束刻蝕的基礎上，增加了腐蝕性氣體，因此它不但保留了離子束物理刻蝕能力，還增加了腐蝕性氣體（氟基氣體、O2）離化后對樣品的化學反應能力（反應離子束刻蝕：RIBE），也支持腐蝕性氣體非離化態的化學輔助刻蝕能力（化學輔助離子束刻蝕：CAIBE），對適用于化學輔助的材料可以大幅度提升刻蝕速率，提高刻蝕質量。 5. 離子束刻蝕（IBE）的案例展示 典型應用：1、三族和四族光學零件2、激光光柵3、高深寬比的光子晶體刻蝕4、在二氧化硅、硅和金屬上深溝刻蝕5、微流體傳感器電極6、測熱式微流體傳感器
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- 2024-12-30 13:30:12雙聚焦磁質譜儀圖片
- 雙聚焦磁質譜儀圖片：技術原理與應用 雙聚焦磁質譜儀（Dual-Focusing Mass Spectrometer）是一種高精度、高分辨率的儀器，廣泛應用于化學分析、環境監測、藥物研究等多個領域。本文將詳細介紹雙聚焦磁質譜儀的工作原理、技術優勢以及其在科學研究中的重要應用，同時提供相關的儀器圖片，幫助讀者更好地理解這一先進設備的構造和功能。 雙聚焦磁質譜儀的工作原理 雙聚焦磁質譜儀通過對離子的質量-電荷比（m/z）進行高精度測量，實現對復雜樣本中微量物質的定性和定量分析。其核心原理是利用兩個磁場對離子進行聚焦，從而提高分析的分辨率和準確性。 在典型的質譜分析中，離子源首先將樣品轉化為帶電粒子，經過加速后，這些帶電離子進入一個磁場。在個聚焦階段，磁場會對離子按質量進行偏轉，不同質量的離子會偏離不同的軌跡。然后，這些離子進入第二個聚焦系統，通過進一步的聚焦和分析，實現對離子群體的高效分離和檢測。，質譜儀通過檢測器記錄離子的信號強度，從而獲得質譜圖。 雙聚焦磁質譜儀通過優化兩個磁場的設計，不僅提高了分辨率，還降低了離子信號的背景噪聲，使得對復雜樣本的分析更加。 雙聚焦磁質譜儀的技術優勢 高分辨率 雙聚焦磁質譜儀的大優勢之一就是其的分辨率。相比傳統的單聚焦磁質譜儀，雙聚焦技術能夠更好地分離質量相近的離子，使得分析結果更加精確。這對于復雜的化學混合物或低濃度樣品的分析尤為重要。 更強的靈敏度 雙聚焦磁質譜儀具有較低的背景噪聲，可以在更低的信號強度下進行精確檢測。這使得它在微量成分分析、環境監測及藥物檢測中具有無可比擬的優勢。 廣泛的應用范圍 由于其優異的性能，雙聚焦磁質譜儀在生命科學、藥物分析、食品安全、環境監測等領域都有著廣泛的應用。例如，在臨床診斷中，它可以用來檢測血液樣本中的微量毒素或藥物成分；在環境科學中，它可以幫助科學家監測水質、空氣質量中的有害物質。 雙聚焦磁質譜儀的典型應用 生物醫學研究 在生物醫學研究中，雙聚焦磁質譜儀用于蛋白質組學、代謝組學以及藥物代謝的研究。通過高精度測量生物大分子和小分子藥物的質量信息，研究人員可以了解藥物在體內的代謝過程，進而改進藥物的治果和安全性。 食品安全檢測 雙聚焦磁質譜儀在食品安全檢測中發揮著重要作用。它能夠有效檢測食品中的添加劑、污染物以及微量的有害物質，從而確保食品的質量和安全。 環境污染監測 雙聚焦磁質譜儀可用于檢測空氣、水體和土壤中的污染物，尤其是微量重金屬和有機污染物的分析。這為環境保護提供了有力的技術支持，能夠幫助相關部門監測和治理環境污染。 結語 雙聚焦磁質譜儀憑借其的技術性能，已經成為現代科學研究中不可或缺的分析工具。其高分辨率和高靈敏度使其在多個領域中發揮著重要作用，無論是在基礎科研，還是在工業應用中，都展現出了極大的價值。隨著技術的不斷發展，未來雙聚焦磁質譜儀將在更廣泛的應用領域中發揮更大作用，為科學技術的進步提供強有力的支持。
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