雖然光譜儀本身具有很高的測量精度，但在測量樣品中元素含量時(shí)，得到的結(jié)果往往與真實(shí)含量不符，存在一定的誤差，而且由于多種因素的影響，有些材料本身的含量很低。引起儀器檢測誤差的主要因素可分為以下幾類：

　　系統(tǒng)誤差來源

　　當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)品和樣品的含量和化學(xué)成分不完全相同時(shí)，基體線和分析線的強(qiáng)度可能會(huì)發(fā)生變化，從而引入誤差。為了消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，需要對多種校對結(jié)果進(jìn)行化學(xué)分析。

　　當(dāng)澆注狀態(tài)下的鋼樣與退火、淬火、回火、熱軋、鍛造狀態(tài)下的類鋼金屬結(jié)構(gòu)不同時(shí)，測量數(shù)據(jù)可能不同。未知元素譜線的重疊干涉。例如，在冶煉過程中添加脫氧劑或除硫劑時(shí)，混合未知合金元素，并引入系統(tǒng)誤差。當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)物和樣品的物理性質(zhì)不一致時(shí)，激發(fā)的特征線就會(huì)不同，從而引起系統(tǒng)誤差。

　　偶然誤差源

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析所消耗的樣品量很小，樣品中元素分布不均勻，結(jié)構(gòu)不均勻，導(dǎo)致不同部位分析結(jié)果不同，偶爾出現(xiàn)誤差。主要原因如下：

　　在冶煉過程中引入夾雜物，產(chǎn)生偏析，導(dǎo)致樣品元素分布不均。樣品的缺陷、氣孔、裂紋、氣泡等。磨樣線、磨樣過熱、磨樣面放置時(shí)間過長及指紋等因素。為了減少偶然誤差，需要仔細(xì)取樣以消除樣品不均勻性和鑄造缺陷，并且可以重復(fù)多次分析以減少分析誤差。

　　其他因素誤差

　　室溫升高會(huì)增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度很可能引起高壓元件的泄漏和放電，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。氬不純凈。當(dāng)氬中含有氧和水蒸氣時(shí)，激發(fā)點(diǎn)會(huì)惡化。如果氬氣管道和電極夾持器不放電，分析結(jié)果會(huì)更差。