-
-
-
江蘇磐石小型磁控濺射鍍膜機
- 品牌：江蘇磐石
- 型號： PS-CK200
- 產地：江蘇 徐州
- 供應商報價：￥376000
-
磐石創新(江蘇)電子裝備有限公司
更新時間：2024-03-21 14:17:51 -
銷售范圍售全國
入駐年限第5年
營業執照已審核
- 同類產品小型(1件)
立即掃碼咨詢
聯系方式：400-822-6768
聯系我們時請說明在儀器網（www.ghhbs.com.cn）上看到的!
掃 碼 分 享 -
為您推薦
產品特點
- PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成。可用來制備導電膜、金屬膜、介質膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊，占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
詳細介紹
設備簡介
PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成。可用來制備導電膜、金屬膜、介質膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊，占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
環境要求
供電：AC220V，功率≥20KVA
獨立地線：＜3Ω，從設備到地線連接建議采用≥10mm2 的扁平銅線
供水：流量≥10L/min 水溫0～25℃
室溫：＜30℃
相對濕度：＜75%
高純氬氣
室內無腐蝕易燃、易爆、有毒氣體，無大的塵埃。技術參數
真空室尺寸（內徑X高） Ф200×200mm 極限真空 2X10-4 Pa 恢復工作真空 從大氣抽至8X10-4 Pa,≤40min 工作真空 ≤6X10-1Pa 升壓率 ≤8X10-1Pa/h 基片架旋轉速度 2～20rpm可調 靶-片距 80～120mm 真空系統 分子泵：FF63/80 型 62 L/S 機械泵：TRP-12型 3L/S 總功率 20KVA 設備占地尺寸 800X800 相關產品
滬公網安備 31011502008050號