THEIA 超快平面原子層沉積系統

THEIA 是一款高性能，穩定，靈活，可靠且安全的研發型原子層沉積系統，兼具工業生產解決方案的優勢。THEIA 可進行升級改造，從而滿足科學研究的各種需求，并實現從“研發”到“生產”的無縫銜接。

產品規格

1.  SMFD-ALDTM 超快沉積：12-30 nm/min

2. 低維護周期：平均每 50 μm 沉積后維護一次

3. 專利閥門：可實現 <1ms 開關控制，壽命可達 1 億次循環，在 220℃ 下長期穩定工作

4. 薄膜不均勻度 <1%

5. 可容納 3 片 75-300mm 基片，300×300×10mm 的腔室

產品特點

THEIA 解決了困擾 ALD 工藝多年以來的問題：效率與維護。ALD 雖然擁有較好的膜厚控制與均一性，但因為效率不高，市場容量仍然低于 CVD。Forge Nano 擁有 SMFD-ALDTM 超快沉積技術，可實現最快 12-30nm/min 的沉積效率，將 ALD 沉積效率提升到新的高度。同時實現前驅體高利用率以及低維護成本，與 CVD 相比，THEIA 的集成減排設計可以實現污染物“零排放”，避免了環境污染問題，節約大量成本，為 ALD 工藝提供了新的參考標準。