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NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產品特點：

• 低成本

• 離子束：高達2KV/10mA

• 離子電流密度100-360uA/cm2

• 離子束直徑：4",5",6"

• 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 極限真空5x10-7Torr

• 260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不銹鋼或鋁質腔體

• 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)

• 自動上下載片（NIE-3500）

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 占地面積30"x30"

產品應用：

• 表面清洗

• 表面處理

• 離子銑

• 帶活性氣體的離子束刻蝕

• 光柵刻蝕

• SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕