簡介

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術（ECR）的小型離子束蝕刻系統，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。

EIS-200原理：

利用ECR技術產生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達樣品表面，對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優點：

方向性好，各向異性，陡直度高，側向刻蝕少

分辨率高

不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進行蝕刻

可控制蝕刻Taper角

可以設定多樣的實驗條件

NPD(納米圖案成膜單元)選項（如下圖）

主要功能

納米級圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

離子束沉積

表面清潔

離子減薄

技術能力

應用

納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

SiO2 on Si substrate

Diamond Substrate（金剛石）

Quartz (Mask)

Oriented PET film