離子濺射儀（非磁控）

廠家：

型號：TZZN-200

注明：本型號和市面上的非磁控差不多，沒有鏈條設計的，需要把蓋先拿起來放在旁邊，再放樣品

簡介：

此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣必備的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有專用進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

主要特點：

顯示操作面為60°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；

真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；

真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

技術參數：

1. 玻璃處理室：Φ108mm,高度135mm;

2.試樣臺尺寸：Φ40mm,可同時放6個樣品杯；

3.金靶尺寸：Φ57mm;

4.真空系統：靜音直聯旋片真空泵2L/S；

5.真空檢測：定制皮氏計，配合真空指針表，靈敏可靠；

6.真空保護：20pa配有微量充氣閥調節工作真空；

7.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量充氣節；

離子濺射儀（非磁控）

廠家：

型號：TZZN-100

注明：本型號為，非磁控，但是優于市面上其他品牌的，我們帶鏈條，可以直接翻蓋放樣品

技術參數：

1.  真空腔室：Φ110mm,高度130mm，

2.  試樣臺尺寸：Φ60mm

3.  金靶尺寸：Φ57mm

4.  真空系統：抽速8m3/h

5.  真空檢測：定制皮氏計，配合真空指針表，靈敏可靠；

6.  時間范圍：0-999秒連續可調，LED數顯。

7.  自動排放氣，無需手動排氣。

8.  工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進氣口和微量調節閥；

主要特點：

?顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；

?真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

?微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；

?真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

?控制電路為控制板，工作穩定可靠；

?結構簡單可靠，布局合理，維修操作空間大；

簡介：

此款TZZN-1000型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣必備的儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有專用進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

離子濺射儀（磁控）

廠家：

型號：TZSC-1000

注明：本型號為磁控，與進口的差不多，適合客戶放大倍數高，

此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩定，操作簡單方便。采用磁控冷態濺射，基本不升溫，保護樣品。

主要特點:

2  顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；

2  真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

2  微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；

2  真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

2  控制電路為控制板，工作穩定可靠；

2  顯示控制操作部分布局合理，位于同側，使用方便；

2  磁控冷態濺射，基本不升溫，保護樣品；

技術參數:

1.樣品室空間：直徑120mm×高110mm

2. Pt靶為標配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm

3.獨立真空控制電路設計，實現真空度和濺射電流，安全互鎖，可調電流40mA；

4.侵入式磁控低溫離子源，可快速更換靶材，環繞暗區護罩；

5.使用獨立計時控制器，可調設置范圍:1-500秒，連續可調

6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控制

7.進口真空泵，抽速8.5m3/h，噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統

8.微型真空氣閥：高精度微量流量閥，精度±0.1Pa

真空鍍碳儀

廠家

型號：TZZN-1000C

注明：桌面型蒸鍍碳層，減少因樣品鍍層對X射線能量譜儀做元素分析時的能量損失，可以選擇蒸發碳繩和蒸發碳棒兩種方式。

技術規格說明

樣品倉尺寸：φ150mmX110mm

蒸發面積：約Φ140mm

真空度：≤4×10-2mbar

工作電壓：220V,50HZ

蒸發輸出：電壓30V

蒸發靶材：碳棒、碳繩

蒸發電流：約100A

理想膜層的特點

1.良好的導熱和導電性能。

2.不管樣品的表面形貌如何，覆蓋在所有部位的膜層需要薄厚均勻。

3.膜層對樣品的化學成分干擾很小，對從樣品中發射的X射線強度影響很弱。

4.這層膜主要增加樣品表面的導電性能和導熱性能，相較于導電金屬膜層的厚度普遍在10nm以上；可提供碳的鍍層，在3-4nm分辨率尺度內不顯示其幾何形貌特點，避免引入不必要的人為圖像，鍍層精細均勻，適合非常粗糙的樣品，高分辨研究。

5.可以噴碳（碳棒或碳繩），有利于對樣品中非碳元素的能譜分析。

6.非導電樣品觀察背散射電子圖像，進行EBSD分析，也應該噴碳處理。

主要用于掃描電鏡 EDS 樣品鍍導電膜 ，儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣的儀器。

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