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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統
- 品牌：美國BlueWave
- 型號： Physical Vapor Deposition Plus
- 產地：美洲 美國
- 供應商報價：面議
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QUANTUM量子科學儀器貿易（北京）有限公司
更新時間：2025-04-21 10:15:39 -
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產品特點
- ?可集成熱蒸發源或濺射源
?可旋轉的耐氧化基片加熱臺 詳細介紹
BlueWave是一家著 名的美國半導體設備、材料生產商。BlueWave提供多種薄膜制備系統，包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(TCVD)。這些系統是理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統配件，例如基片加熱裝置、原位監測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。
1、脈沖激光沉積系統
產品特點
超高真空不銹鋼腔體?可集成熱蒸發源或濺射源?可旋轉的耐氧化基片加熱臺?流量計或針閥精確控制氣體流量?標準真空計?干泵與分子泵?可選配不銹鋼快速進樣室?可選配基片-靶材距離自動控制系統?是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的zui佳設備2、物理氣相沉積系統（Physical Vapor Deposition Plus）
產品特點
?超高真空不銹鋼腔體
?電子束、熱蒸發、脈沖激光沉積可集成?獨立襯底加熱，可旋轉?多量程氣體流量控制器?標準氣壓計?機械、分子、冷凝真空泵
?可選不銹鋼快速進樣室?襯底和源距離可控?可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜
3、熱化學氣相沉積系統（TCVD）
產品特點?高溫石英管反應器設計?溫度范圍：室溫到1100度?多路氣體精確控制?標準氣壓計?易于操作?可配機械泵實現低壓TCVD
?可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜?液體前驅體噴頭?2英寸超大wan美溫度均勻區4、熱絲化學氣相沉積系統（HFCVD）
產品特點：?水冷不銹鋼超高真空腔?熱絲易安裝、更換?4個不同量程氣體控制器?標準氣壓計?襯底與熱絲距離可調節?2英寸襯底加熱、可旋轉?wan美制備金剛石和石墨烯
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