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iPHEMOS-MP倒置發(fā)射顯微鏡 C10506-06-16

品牌：日本濱松
型號： C10506-06-16
產(chǎn)地：亞洲日本
供應商報價：面議

濱松光子學商貿(mào)（中國）有限公司更新時間：2025-02-24 10:56:46

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品失效分析系統(tǒng)(4件)

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產(chǎn)品特點

iPHEMOS-MP倒置微光顯微鏡是一款半導體失效分析系統(tǒng)，通過檢測半導體裝置缺陷引起的微弱的光發(fā)射和熱發(fā)射來準確定位半導體器件失效的位置。利用其倒置型設計，iPHEMOS-MP對半導體器件的背面進行探測分析，并可結合Tester順利進行各種類型的分析。iPHEMOS-MP包含一個激光掃描系統(tǒng)，可以獲得高分辨率的圖像。不同類型的探測器可以用來實現(xiàn)各種分析技術，比如發(fā)射分析、熱分析、紅外-光致阻值改變（IR-OBIRCH）分析等。當結合專用探測器進行背面觀察，iPHEMOS-MP支持從wafer到單個芯片的靈活測量。

●iPHEMOS-MP
通過安裝300 mm晶圓探針，支持從單個芯片到晶圓的測量。可通過探針卡進行多針接觸，并在PC板上進行樣品觀察。通過電纜連接也可以使用LSI測試儀驅(qū)動進行動態(tài)分析。

詳細介紹

連接示例

產(chǎn)品特征

● 可安裝用于光發(fā)射分析和熱分析的兩個超高靈敏度相機

● 可安裝最多3個波長的激光器和一個EOP探頭光源

● 配備適合不同樣品的光學工作臺

● 高靈敏度微距鏡頭和最多10個適合每個探測器靈敏度波長的鏡頭

產(chǎn)品選配

● 激光掃描系統(tǒng)
● 高靈敏度近紅外相機進行光發(fā)射分析
● 高靈敏度中紅外相機進行熱分析
● 紅外-光致阻值改變（IR-OBIRCH）分析
● 激光輻射動態(tài)分析
● EO偵測分析
● 納米透鏡進行高分辨率、高靈敏度分析?
● 連接到CAD導航
● 連接到LSI測試儀

顯示功能

疊加顯示/對比度增強功能

iPHEMOS-MP將發(fā)光圖像疊加到高分辨率模板圖像上來快速定位缺陷點。對比度增強功能可使圖像更清晰，細節(jié)更多。

顯示功能

● 注釋
● 圖像的任何位置都可以顯示評論、箭頭等注釋符號。
● 比例顯示
● 可使用分段，在圖像上顯示比例寬度。
● 柵格顯示
● 圖像上可顯示水平和垂直柵格。
● 縮略圖顯示
● 圖像可以以縮略圖的形式存儲和調(diào)用，stage坐標等圖像信息也可顯示。
● 分屏顯示
● 圖案影像、發(fā)射圖像、疊加圖像以及參考圖像可一次顯示在4個窗口的屏幕上。

詳細參數(shù)

線性電壓	AC 200 V (50 Hz/60 Hz)
功耗	Approx. 1400 VA (Max. 3300 VA)
真空	Approx. 80 kPa or more
氣壓	0.5 MPa to 0.7 MPa
尺寸/重量	Main unit: 1740 mm (W)×1150 mm (D)×1770 mm (H), Approx. 1400 kg Control rack: 880 mm (W)×700 mm (D)×1542 mm (H), Approx. 255 kg Optional desk: 1000 mm (W)×800 mm (D)×700 mm (H), Approx. 60 kg