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反射式膜厚測量儀
- 品牌：日本HalfMoon
- 產地：亞洲 日本
- 供應商報價：面議
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上海瞬渺光電技術有限公司
更新時間：2022-01-12 15:50:35 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照
- 同類產品半導體研發測試(9件)
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詳細介紹
產品特點：
?非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。
?高精度、高再現性測量紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率，k消光系數）。
?寬闊的波長測量范圍。（190nm-1100nm）
?薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。（1nm~250μm）
?對應顯微鏡下的微距測量口徑。
產品規格：
標準型
厚膜專用型
膜存測量范圍 1nm~40μm
0.8μm~250μm
波長測量范圍
190~1100nm
750~850nm
感光元件 PDA512ch（電子制冷）
CCD512ch（電子制冷）
PDA512ch（電子制冷）
光源規格 D2（紫外線）、12（可見光）、D2+12（紫外-可見光）
12（可見光）
電源規格 AC100V±10V750VA（自動樣品臺規格）
尺寸 4810（H）×770（D）×714（W）mm（自動樣品臺規格之主體部分）
重量 約96kg（自動樣品臺規格之主體部分）
應用范圍：
FPD
-LCD、TFT、OLED（有機EL）
半導體、復合半導體
-矽半導體、半導體鐳射、強誘電、介電常數材料
資料儲存
-DVD、磁頭薄膜、磁性材料
光學材料
-濾光片、抗反射膜
平面顯示器
-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED
薄膜
-AR膜
其他
-建筑用材料
測量范圍：
玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質分析
滬公網安備 31011502008050號