
- 2025-04-25 14:15:49微納操縱
- 微納操縱是指在微納米尺度上對物質進行精準操控的技術。它涉及利用物理、化學或生物方法,通過顯微鏡觀察并操作微小的粒子、結構或器件。這種技術廣泛應用于材料科學、生物醫學、納米電子學等領域,能夠實現高精度定位、組裝、測量等功能。微納操縱技術的發展推動了微納系統的研究與應用,促進了納米科技的進步,為新材料、新器件的研發提供了重要手段。
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微納操縱相關內容
微納操縱產品
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- MagnebotiX磁控微納操縱/表征系統
- 國外 歐洲
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蘇州微艾精密科技有限公司
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- 納米壓痕 MTA02微力位移測試操縱系統
- 國內 上海
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上海納騰儀器有限公司
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- 微納光纖定制加工
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筱曉(上海)光子技術有限公司
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- 高精度顯微操縱儀
- 國外 歐洲
- €15400
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孚光精儀(香港)有限公司
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- 微納顆粒Winner2000
- 國內 山東
- ¥10000
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濟南微納顆粒儀器股份有限公司
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微納操縱問答
- 2023-02-05 09:13:27納克微束祝您元宵節快樂!
- 萬家燈火,歡樂元宵!納克微束祝大家好夢皆圓!
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- 2023-02-01 14:56:12蔡司激光共聚焦顯微鏡-微納器件的表征分析
- 對微納器件進行表征時,常關注的便是器件的表面形貌和三維尺寸信息,比如粗糙度、深度、體積等,這些都是評價微納加工工藝的重要指標。然而,在進行表面三維的分析工作中,我們可能常遇到這樣的苦惱: 光學明場無法直接定位到亞微米級缺陷結構! 樣品結構太復雜,微弱信號無法捕獲,難以準確測量尺度信息! 三維接觸式測量經常會損傷柔軟樣品,導致測試結果不準確! 今天,友碩小編將從下面幾個角度來看看蔡司激光共聚焦顯微鏡如何幫助你更好地解決這些問題。 失效分析:多尺度多維度原位分析! 器件表面往往存在一些特殊的結構或缺陷,比如亞微米尺度的劃痕,這些特征難以在光學明場下被直接觀察到。C-DIC(圓微分干涉)觀察模式可以讓樣品表面亞微米尺度的微小起伏都可以呈現出浮雕效果,幫助我們快速定位并開展下一步的分析工作。 ▲ 不同觀察方式下晶圓表面缺陷 在定位到感興趣區域后,可以直接切換到共聚焦模式,進行表面三維形貌掃描,并進行尺寸測量及分析,無需轉移樣品即可完成樣品多尺度多維度的表征。 ▲共聚焦三維圖像及深度測量 對于某些樣品,暗場和熒光模式也是一種很好定位方法,表面起伏的結構在暗場下尤其明顯,如藍寶石這類能發熒光的晶圓,利用熒光成像也能幫助我們快速地定位到失效結構。甚至,共聚焦還可以和電鏡或者雙束電鏡(FIB)(點擊查看)實現原位關聯,在共聚焦顯微鏡下進行定位后轉移樣品到電鏡下進行更高分辨的表征分析。 深硅刻蝕:結構深,信號弱,蔡司激光共聚焦顯微鏡有辦法! 深硅刻蝕的樣品通常為窄而深的溝壑結構。接觸式測量(如臺階儀)無法接觸到溝壑底部測得信息,而由于結構特殊造成了反射光信號損失,常規白光干涉或者顯微明場無法捕獲底面的微弱信號。因此,不得不對樣品進行裂片分析,這不僅破壞了樣品,而且還使分析流程復雜化。 西湖大學張先鋒老師用蔡司激光共聚焦顯微鏡對深163.905 μm,寬3.734μm的刻蝕坑進行成像,高靈敏探測器、大功率激光及Z Brightness Correction技術可以幫助成功檢測到底部的微弱信號,完成大深寬比(近50:1)樣品的三維形貌表征與測量,輕松實現無損檢測分析。
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- 2023-06-08 17:52:34邀請函|飛納電鏡邀您參加微納科技與先進材料創新大會 2023
- 復納INVITATION微納科技與先進材料創新大會(2023)將于 6 月 10 日 - 12 日在重慶舉辦。本次會議旨在凝聚優勢力量、加強納米科學與微納制造技術的基礎研究與應用研究,促進多學科交叉融合,促進先進材料產業化的發展。時間:2023 年 6 月 10 日 - 12 日地點:重慶兩江云頂大酒店復納科技展位號:7 號新興的微納材料在電子、通信和物聯網、能源存儲、化工和燃料生產、醫療保健、藥物輸送等領域應用廣泛。納米材料的性質與其組成和表面形貌有很大的關系,復納科技擁有一系列高精尖的分析檢測儀器與先進的解決方案,可以對納米材料進行分析表征和改性。歡迎各位老師同行蒞臨【7】號展位,和我們一起探討交流!莊思濛 復納科技產品經理報告時間:6月12日 16:05-16:25本次會議中,復納科技產品經理莊思濛將在“微納技術在新能源電池領域中的應用技術”分會場帶來《電池粉末原子層沉積包覆改性及原位電鏡表征方案》的主題報告。1、Phenom-飛納臺式掃描電鏡飛納臺式掃描電鏡操作簡單,效率高,成像質量高,其優異的低真空模式可實現無需噴金直接觀察不導電樣品。最 新的第二代場發射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優于 1.5nm,是分辨率最 高的臺式掃描電鏡,是納米材料表征的強有力工具。Phenom Pharos G2飛納臺式場發射掃描電鏡Phenom XL G2飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓 越版Phenom ProX飛納臺式掃描電鏡能譜一體機2、Forge Nano-原子層沉積系統ALD 原子層沉積技術已被證明可用于多種組分以及納米結構的制備,包括單原子 / 團簇催化劑、鋰電材料表面包覆等等。Forge Nano 設備基于 ALD 工藝可實現從毫克到千噸級的粉末包覆處理量,能夠有效提高電池化學性能與安全性。3、DENSsolutions-TEM 原位實驗方案DENS 產品可以為 TEM 樣品施加外界刺激,實現在 TEM 中引入氣、液、熱、電等多種條件,捕捉 TEM 樣品在真實環境下的動態現象。目前提供的四種原位實驗方案:Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案。Wildfire 原位加熱樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Stream 原位液相加熱/加電樣品桿Climate 原位氣相加熱樣品桿4、VSParticle-全自動納米研究平臺VSParticle 設備采用火花燒蝕制備納米顆粒的技術,可對產生的顆粒進行粒徑的控制,從而獲得不同粒徑中位值的單分散納米氣溶膠。此外該技術也能用于進行快速打印以及粉末表面的納米沉積。歡迎各位老師蒞臨展位與我們探討交流,我們將隨時為您提供專業的解答與支持,現場也有精美小禮品相送噢!
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