- 2025-02-20 15:15:33納米紅外光譜
- 納米紅外光譜是一種用于研究納米尺度材料的光譜技術(shù)，通過(guò)測(cè)量材料在紅外波段的吸收、反射或透射特性，揭示其分子結(jié)構(gòu)和化學(xué)鍵信息。該技術(shù)具有高靈敏度、高分辨率的特點(diǎn)，適用于分析納米材料的組成、表面狀態(tài)及界面相互作用。在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，為納米技術(shù)的研究提供了有力工具。
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納米紅外光譜資訊
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- Bruker & Gamry在線講座：振動(dòng)光譜結(jié)合電化學(xué)進(jìn)行電池研究
- 本次講座由布魯克光學(xué)Dr. Sergey Shilov博士，以及美國(guó)Gamry電化學(xué)Dr. David Loveday博士共同主講
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- 直播預(yù)告 |現(xiàn)場(chǎng)紅外光譜電化學(xué)的原理和應(yīng)用簡(jiǎn)介&稀土氟化物納米晶的閃爍光譜調(diào)控與X射線成像
- 液晶彈性體因其在響應(yīng)各種外部刺激時(shí)具有較大的、可逆的和各向異性的形狀變化而受到廣泛關(guān)注，在智能機(jī)器人、生物醫(yī)學(xué)、電子學(xué)、光學(xué)和能源領(lǐng)域顯示出巨大的應(yīng)用潛力。
納米紅外光譜文章
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- 在當(dāng)今的環(huán)境科學(xué)研究中，微塑料污染已成為全球性的生態(tài)問(wèn)題。這些微小的塑料顆粒，尤其是納米級(jí)別的微塑料（NPs），因其尺寸小、難以被傳統(tǒng)檢測(cè)手段識(shí)別，給環(huán)境監(jiān)測(cè)和污染治理帶來(lái)了巨大挑戰(zhàn)。
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納米紅外光譜問(wèn)答
- 2024-03-05 17:21:07近紅外光譜解析實(shí)用指南
- 求《近紅外光譜解析實(shí)用指南》
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- 2024-11-19 15:40:45近紅外光譜分析儀有哪些分類？
- 近紅外光譜分析儀主要分為固定波長(zhǎng)濾光片型、光柵掃描型、傅里葉變換型（FT-NIR）和聲光可調(diào)濾光器型（AOTF）。每種類型都有其特定的應(yīng)用場(chǎng)景和優(yōu)勢(shì)，如光柵掃描型適用于需要高信噪比和分辨率的場(chǎng)合，而FT-NIR則以其高分辨率和掃描速度受到青睞。
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- 2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
- 本品為化學(xué)法合成的白色球形粉末，無(wú)重金屬、 無(wú)放射性元素。物理指標(biāo)①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學(xué)指標(biāo)①本品用于噴墨打印紙的涂層， 為紙張?zhí)岣吖鉂伞＂趬埣油苛系哪湍バ裕哂兄鳌?提高上粉率、防結(jié)塊等特點(diǎn)應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號(hào)搜索粉體圈，聯(lián)系報(bào)價(jià)。聯(lián)系方式：400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進(jìn)入店鋪查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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- 2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
- BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS，可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index＆performance粒徑測(cè)試原理：動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測(cè)角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理：相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度：12°Zeta范圍：無(wú)實(shí)際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力：均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式：時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關(guān)器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動(dòng)態(tài)線性范圍檢測(cè)器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強(qiáng)控制：0.0001% - 100%，手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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- 2022-07-14 15:06:51淺談掃描俄歇納米探針
- 簡(jiǎn)介 掃描俄歇納米探針，又稱俄歇電子能譜（Auger Electron Spectroscopy，簡(jiǎn)稱AES）是一種表面科學(xué)和材料科學(xué)的分析技術(shù)。根據(jù)分析俄歇電子的基本特性得到材料表面元素成分（部分化學(xué)態(tài)）定性或定量信息。可以對(duì)納米級(jí)形貌進(jìn)行觀察和成分表征。近年來(lái)，隨著超高真空和能譜檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展，掃描俄歇納米探針作為一種極為有效的表面分析工具，為探索和研究表面現(xiàn)象的理論和工藝問(wèn)題，做出了巨大貢獻(xiàn)，日益受到科研工作者的普遍重視。俄歇電子能譜常常應(yīng)用在包括半導(dǎo)體芯片成分表征等方向發(fā)展歷史 近年來(lái)，固體表面分析方法獲得了迅速的發(fā)展，它是目前分析化學(xué)領(lǐng)域中最活躍的分支之一。它的發(fā)展與催化研究、材料科學(xué)和微型電子器件研制等有關(guān)領(lǐng)域內(nèi)迫切需要了解各種固體表面現(xiàn)象密切相關(guān)。各種表面分析方法的建立又為這些領(lǐng)域的研究創(chuàng)造了很有利的條件。在表面組分分析方法中，除化學(xué)分析用光電子能譜以外，俄歇電子能譜是最重要的一種。目前它已廣泛地應(yīng)用于化學(xué)、物理、半導(dǎo)體、電子、冶金等有關(guān)研究領(lǐng)域中。 俄歇現(xiàn)象于1925年由P.Auger發(fā)現(xiàn)。28 年以后，J.J.Lander從二次電子能量分布曲線中第一次辨認(rèn)出俄歇電子譜線， 但是由于俄歇電子譜線強(qiáng)度低，它常常被淹沒(méi)在非彈性散射電子的背景中，所以檢測(cè)它比較困難。 1968年，L.A.Harris 提出了一種“相敏檢測(cè)”方法，大大改善了信噪比，使俄歇信號(hào)的檢測(cè)成為可能。以后隨著能量分析器的完善,使俄歇譜儀達(dá)到了可以實(shí)用的階段。 1969年圓筒形電子能量分析器應(yīng)用于AES, 進(jìn)一步提高了分析的速度和靈敏度。 1970年通過(guò)掃描細(xì)聚焦電子束,實(shí)現(xiàn)了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖)，出現(xiàn)了掃描俄歇微探針儀器。 1972年，R.W.Palmberg利用離子濺射，將表面逐層剝離，獲得了元素的深度分析，實(shí)現(xiàn)了三維分析。至此，俄歇譜儀的基本格局已經(jīng)確定， AES已迅速地發(fā)展成為強(qiáng)有力的固體表面化學(xué)分析方法，開始被廣泛使用。基本原理 俄歇電子是由于原子中的電子被激發(fā)而產(chǎn)生的次級(jí)電子。當(dāng)原子內(nèi)殼層的電子被激發(fā)形成一個(gè)空穴時(shí)，電子從外殼層躍遷到內(nèi)殼層的空穴并釋放出光子能量；這種光子能量被另一個(gè)電子吸收，導(dǎo)致其從原子激發(fā)出來(lái)。這個(gè)被激發(fā)的電子就是俄歇電子。這個(gè)過(guò)程被稱為俄歇效應(yīng)。Auger electron emission 入射電子束和物質(zhì)作用，可以激發(fā)出原子的內(nèi)層電子。外層電子向內(nèi)層躍遷過(guò)程中所釋放的能量，可能以X光的形式放出，即產(chǎn)生特征X射線，也可能又使核外另一電子激發(fā)成為自由電子，這種自由電子就是俄歇電子。對(duì)于一個(gè)原子來(lái)說(shuō),激發(fā)態(tài)原子在釋放能量時(shí)只能進(jìn)行一種發(fā)射：特征X射線或俄歇電子。原子序數(shù)大的元素，特征X射線的發(fā)射幾率較大，原子序數(shù)小的元素，俄歇電子發(fā)射幾率較大，當(dāng)原子序數(shù)為33時(shí)，兩種發(fā)射幾率大致相等。因此，俄歇電子能譜適用于輕元素的分析。 如果電子束將某原子K層電子激發(fā)為自由電子，L層電子躍遷到K層，釋放的能量又將L層的另一個(gè)電子激發(fā)為俄歇電子，這個(gè)俄歇電子就稱為KLL俄歇電子。同樣，LMM俄歇電子是L層電子被激發(fā)，M層電子填充到L層，釋放的能量又使另一個(gè)M層電子激發(fā)所形成的俄歇電子。 只要測(cè)定出俄歇電子的能量，對(duì)照現(xiàn)有的俄歇電子能量圖表，即可確定樣品表面的成份。由于一次電子束能量遠(yuǎn)高于原子內(nèi)層軌道的能量，可以激發(fā)出多個(gè)內(nèi)層電子，會(huì)產(chǎn)生多種俄歇躍遷，因此,在俄歇電子能譜圖上會(huì)有多組俄歇峰，雖然使定性分析變得復(fù)雜，但依靠多個(gè)俄歇峰,會(huì)使得定性分析準(zhǔn)確度很高，可以進(jìn)行除氫氦之外的多元素一次定性分析。同時(shí),還可以利用俄歇電子的強(qiáng)度和樣品中原子濃度的線性關(guān)系,進(jìn)行元素的半定量分析,俄歇電子能譜法是一種靈敏度很高的表面分析方法。其信息深度為5nm以內(nèi),檢出限可達(dá)到0.1%atom。是一種很有用的分析方法。系統(tǒng)組成 AES主要由超高真空系統(tǒng)、肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍、CMA同軸式筒鏡能量分析器、五軸樣品臺(tái)、離子槍等組成。以ULVAC-PHI的PHI 710舉例，其核心分析能力為25 kV肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子源，與筒鏡式電子能量分析器CMA同軸。伴隨著這一核心技術(shù)是閃爍二次電子探測(cè)器、 高性能低電壓浮式氬濺射離子槍、高精度自動(dòng)的五軸樣品臺(tái)和PHI創(chuàng)新的儀器控制和數(shù)據(jù)處理軟件包：SmartSoft AES ? 和 MultiPak ?。并且，目前ULVAC-PHI的PHI 710可以擴(kuò)展冷脆斷樣品臺(tái)、EDS、EBSD、BSE、FIB等技術(shù)，深受廣大用戶認(rèn)可。PHI710激發(fā)源，分析器和探測(cè)器結(jié)構(gòu)示意圖： 為滿足當(dāng)今納米材料的應(yīng)用需求，PHI 710提供了最高穩(wěn)定性的 AES 成像平臺(tái)。隔聲罩、 低噪聲電子系統(tǒng)、 穩(wěn)定的樣品臺(tái)和可靠的成像匹配軟件可實(shí)現(xiàn) AES對(duì)納米級(jí)形貌特征的成像和采譜。 真正的超高真空（UHV）可保證分析過(guò)程中樣品不受污染，可進(jìn)行明確、準(zhǔn)確的表面表征。測(cè)試腔室的真空是由差分離子泵和鈦升華泵（TSP）抽氣實(shí)現(xiàn)的。肖特基場(chǎng)發(fā)射源有獨(dú)立的抽氣系統(tǒng)以確保發(fā)射源壽命。最新的磁懸浮渦輪分子泵技術(shù)用于系統(tǒng)粗抽，樣品引入室抽真空，和差分濺射離子槍抽氣。為了連接其他分析技術(shù)，如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE，標(biāo)配是一個(gè)多技術(shù)測(cè)試腔體。 PHI 710 是由安裝在一個(gè)帶有 Microsoft Windows ? 操作系統(tǒng)的專用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 儀器操作軟件來(lái)控制的。所有PHI電子光譜產(chǎn)品都包括執(zhí)行行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的 PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件用于獲取數(shù)據(jù)的最大信息。710 可應(yīng)用互聯(lián)網(wǎng)，使用標(biāo)準(zhǔn)的通信協(xié)議進(jìn)行遠(yuǎn)程操作。AES的應(yīng)用 掃描俄歇納米探針可分析原材料（粉末顆粒，片材等）表面組成，晶粒觀察，金相分布，晶間晶界偏析，又可以分析材料表面缺陷如納米尺度的顆粒物、磨痕、污染、腐蝕、摻雜、吸附等，還具備深度剖析功能表征鈍化層，包覆層，摻雜深度，納米級(jí)多層膜層結(jié)構(gòu)等。AES的分析深度4-50 ?，二次電子成像的空間分辨可達(dá) 3納米，成分分布像可達(dá)8納米，分析材料表面元素組成 （Li ~ U），是真正的納米級(jí)表面成分分析設(shè)備。可滿足合金、催化、半導(dǎo)體、能源電池材料、電子器件等材料和產(chǎn)品的分析需求。AES 應(yīng)用的幾種例子，從左到右為半導(dǎo)體FIB-cut，鋰電陰極向陶瓷斷面分析小結(jié)本文小編粗淺的介紹了俄歇電子能譜AES的一些基礎(chǔ)知識(shí)，后續(xù)我們還會(huì)提供更有價(jià)值的知識(shí)和信息，希望大家持續(xù)關(guān)注“表面分析家”！
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