ECVD Depolab 200 等離子體沉積機

成本效益

PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結合。

可升級性

根據其模塊化設計，depolab200可以升級為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。

SENTECH控制軟件

用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數窗口，食譜編輯器，數據日志，用戶管理。

Depolab 200是由SENTECH公司開發的一種基本的等離子體增強化學沉積(PECVD)工具，它將用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計與直接負載的經濟有效設計相結合。從2英寸到8英寸的晶圓片和樣品片上的標準應用開始，它可以逐步升級以適應復雜的加工。

Depolab 200的突出特點是系統的堅固性設計、可靠性和軟硬件的靈活性。在這個系統上開發了不同的程序。用于高品質氮化硅和氧化硅層沉積。Depolab 200包括帶有氣箱、控制電子、計算機、背泵和主連接箱的反應器單元。

Depolab 200等離子體增強沉積工具可在400℃以下的溫度范圍內沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特別適用于蝕刻掩膜、膜、電隔離膜等介質薄膜的沉積。

Depolab 200由森泰克先進控制軟件操作，使用遠程現場總線技術和非常友好的通用用戶界面。

Depolab 200

PECVD等離子體沉積工具

打開蓋子加載

適用于200毫米晶圓

基片溫度可達400℃

低應力薄膜可選低頻混頻

干式抽油機

占用空間小