- 2025-04-25 14:15:35提拉式鍍膜儀
- 提拉式鍍膜儀是一種常用的鍍膜設備，通過精確控制樣品在鍍膜液中的浸入和提拉速度，在樣品表面均勻沉積一層薄膜。該設備適用于多種材料的鍍膜，如金屬、氧化物、聚合物等，可制備出具有優異光學、電學或機械性能的薄膜。提拉式鍍膜儀操作簡便，鍍膜均勻性好，是科研和工業生產中不可或缺的重要工具。通過調整鍍膜液成分、濃度及提拉參數，可靈活調控薄膜的組成、結構和性能。
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提拉式鍍膜儀問答
- 2023-09-06 08:31:41質量可靠，使用方便的離子濺射鍍膜儀
- 天澤智能的離子鍍膜儀，配合電鏡樣品鍍膜圖像很清晰
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- 2024-11-13 10:33:18沉降式粒度儀怎么樣校準
- 在粒度分析中，沉降式粒度儀作為一種常見的測量工具，廣泛應用于工業、科研和質量控制等領域。為了確保儀器測量數據的準確性和可靠性，定期校準沉降式粒度儀是必不可少的工作環節。本文將系統闡述如何校準沉降式粒度儀，包括校準的原理、步驟以及影響因素，幫助使用者掌握正確的校準技巧，提高測量精度。1. 沉降式粒度儀的工作原理沉降式粒度儀的核心原理是通過顆粒在液體中的沉降速度來測定其粒徑。根據斯托克斯定律，顆粒在流體中沉降的速度與顆粒的直徑、流體的粘度和密度等因素密切相關。在實際測量中，沉降速率與粒度分布之間的關系通常需要通過標準曲線進行轉換，從而獲得樣品的粒度信息。2. 校準沉降式粒度儀的必要性沉降式粒度儀的準確性直接影響到粒度分析結果的可靠性，因此定期校準是確保儀器性能的重要步驟。隨著長期使用，儀器的零點漂移、測量誤差等可能發生變化，導致結果偏差。通過有效的校準，可以消除這些潛在誤差，確保測量結果的高精度。3. 校準沉降式粒度儀的步驟校準沉降式粒度儀時，通常遵循以下幾個步驟：準備標準顆粒樣品：選擇已知粒徑的標準顆粒樣品，這些樣品應符合儀器的測量范圍，通常采用粒徑在幾微米到幾百微米之間的標準顆粒。設置合適的實驗條件：包括流體的溫度、粘度以及儀器的操作環境。確保這些參數與校準標準一致，以便獲得準確的測量數據。進行零點校準：在開始正式測量之前，先對儀器進行零點校準，確保儀器在沒有顆粒樣品的情況下讀數為零。測量標準顆粒樣品：將已知粒徑的標準顆粒樣品放入儀器，記錄沉降時間和顆粒的沉降速率。建立校準曲線：根據不同粒徑樣品的沉降速率，繪制標準曲線，并與儀器實際測量結果對比，進行校正。驗證校準結果：通過多次測量驗證校準效果，確保儀器在不同條件下能夠穩定、準確地工作。4. 校準中的常見問題及解決方案溫度和粘度變化對結果的影響：沉降速率與流體的溫度和粘度密切相關，因此，校準時需要在恒定溫度下進行，避免外部環境變化對測量結果造成干擾。標準樣品的選擇：選擇合適的標準顆粒樣品是校準的關鍵，應確保標準樣品的粒度分布與實際測量樣品的粒徑范圍相符。儀器的老化問題：長期使用的儀器可能出現組件老化或精度下降的情況，需要定期進行維護和檢查，以確保校準結果的有效性。
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- 2023-09-03 13:17:03離子濺射儀鍍膜形態
- 在離子濺射儀鍍膜后，在樣品表面的成膜厚度如何確認和測量？
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- 2020-01-10 15:01:29SDI 浸漬提拉鍍膜儀的特點
- 浸漬提拉鍍膜儀的原理是將基材垂直浸入鍍膜溶液（溶膠）中浸漬，然后將基材從溶液中垂直、低速提拉起來，形成一層薄膜。 根據浸漬基材(鍍膜應用對象)和鍍膜溶液的種類，SDI研發了各種不同型號的設備，這些設備具有不同的浸漬鍍膜速度，浸漬行程等。根據型號，SDI浸漬提拉鍍膜儀具有如下特點：1. 實現了超低速度(1nm/s)規格的行業Z高標準：ND-0407-S52. 種類繁多：超低速ND系列(1nm/s)，低速MD系列 (1μm/s)，多用途DT系列 (0.1mm/s)，便攜式和其他各種類型等。3. 振動小，提拉速度穩定：可形成均勻的薄膜。4. 可在任何可選點更改速度和設置停止周期/時間：具有監控當前位置和當前速度等的功能。5. 程序具有重復功能：在某種程度上，可以多回合反復地鍍膜。6. 操作和保養簡單：易于日常維護。7. 積極應對各種定制：可以根據客戶的要求，設計和制造所需的夾具、鍍膜液罐、鍍膜液循環系統等來滿足客戶的需求。8. 適用于觸控面板或PC控制：適用于任何具有良好操作性能的觸摸面板（PLC控制）和成本考慮的PC（只適用于DT系列）控制9. 變速時的停止時間是0秒：對于SDI的原始軟件，連續運行(停止時間0秒)是可行的10. 流暢的速度變化得以實現：SDI使用了可線性改變鍍膜速度的新軟件，可以實現鍍膜速度的流暢變化。
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- 2020-01-10 14:56:25浸漬提拉鍍膜儀提拉速度與膜厚之間的關系
- 干燥及高溫熱處理前原料膜的厚度*1h=a (ηu / dg)1/2處理后的膜厚[x]應與處理前原料膜的厚度[h]成正比，因此鍍膜溶液的密度[d](每單位面積的質量)，粘度[η]以及提拉速度[u]被認為是對成膜有影響的參數。[a]是系數，[g]是重力加速度。因此，可以通過提拉速度來控制薄膜厚度：提拉速度越慢，薄膜越??；提拉速度越快，薄膜越厚。* 1參考資料來源：Latest Transparence Conductive Film Trend (2005)
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